[发明专利]物理气相沉积设备

权利要求书

1.一种物理气相沉积设备，包括：上电极，用于放置基片的腔室，位于上电极和所述腔室之间的工艺组件以及固定连接于所述上电极的开盖架，其中，所述工艺组件与上电极和腔室形成封闭空间进行溅射工艺，其特征在于，所述物理气相沉积设备，还包括：用于支撑所述开盖架的支撑结构，所述支撑结构包括：升降支架和轴承座安装板，其中：

所述轴承座安装板，固定连接于所述升降支架上端，所述开盖架通过转轴固定连接于所述轴承座安装板；

所述升降支架，用于支撑所述轴承座安装板上升或下降，所述升降支架的下端与腔室的底面所在平面固定连接；

其中，通过调节所述升降支架自身的高度，使固定连接于所述升降支架上端的轴承座安装板连同开盖架、转轴和上电极同时上升或下降，以便调节所述上电极和所述腔室之间的距离。

2.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备，其特征在于，所述物理气相沉积设备，还包括：

开盖电机，与所述开盖架连接，所述开盖电机用于驱动所述开盖架带动所述上电极沿所述转轴旋转。

3.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备，其特征在于，所述升降支架，包括：底部支撑柱、上部支撑柱和自动调节装置，其中：

所述上部支撑柱与所述轴承座安装板固定连接，所述底部支撑柱和上部支撑柱之间通过竖直方向的导轨连接；

所述自动调节装置，用于驱动所述上部支撑柱沿所述导轨相对所述底部支撑柱运动，以便调节所述升降支架的高度。

4.根据权利要求3所述的物理气相沉积设备，其特征在于，所述底部支撑柱上设置有竖直方向的直筒状导轨，所述上部支撑柱上设置有竖直方向的圆柱状滑动部件，所述圆柱状滑动部件嵌在所述直筒状导轨中，沿直筒状导轨滑动。

5.根据权利要求3所述的物理气相沉积设备，其特征在于，所述自动调节装置为气动升降装置，所述气动升降装置包括：气缸、由所述气缸驱动的升降杆和气缸安装板，其中：

所述升降杆的顶端固定连接于所述轴承座安装板，所述气缸安装板与所述底部支撑柱的下端连接，以便于通过所述气缸驱动所述升降杆的运动调节所述升降支架的高度。

6.根据权利要求3所述的物理气相沉积设备，其特征在于，所述自动调节装置为电动升降装置，所述电动升降装置包括：

竖直方向的丝杠，所述丝杠的顶端固定连接于所述轴承座安装板；

与所述丝杠螺纹连接的蜗轮；

与所述蜗轮啮合的蜗杆；

丝杠安装板，与所述底部支撑柱的下端连接；

电机，所述电机的主轴固定连接于所述蜗杆，用于驱动所述蜗杆旋转以带动所述丝杠升降。

7.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备，其特征在于，所述升降支架，包括：底部支撑柱和上部支撑柱，其中：

所述上部支撑柱与所述轴承座安装板固定连接，所述底部支撑柱和上部支撑柱之间通过竖直方向的导轨连接；

所述底部支撑柱为气动滑台，所述底部支撑柱直接控制所述上部支撑柱沿竖直方向相对所述底部支撑柱运动。

8.根据权利要求3或5或7中所述的物理气相沉积设备，其特征在于，所述导轨为滚轮导向的导轨或者燕尾槽导向的导轨。

9.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备，其特征在于，所述支撑结构，还包括：轴承座，其中：

转轴固定设置于开盖架上，轴承座固定设置于轴承座安装板上，转轴与轴承座配合设置以使开盖架可以沿转轴在轴承座上旋转。

10.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备，其特征在于，所述轴承座安装板通过螺钉与所述升降支架上端固定连接。