[发明专利]一种化学抛光方法

权利要求书

1.一种化学抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：

A）将铜或铜合金置于氧化液中进行氧化；

所述氧化液包含过氧化物、过硫酸盐、明胶、尿素、醇类化合物与浓硫酸或浓磷酸；

B）将氧化后的铜或氧化后的铜合金置于出光液中进行处理；

所述出光液包含过氧化物、椰油酸二乙醇酰胺、苯并三氮唑类缓蚀剂、硝酸盐、水与浓硫酸或浓磷酸。

2.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述步骤A）还包括：

将铜或铜合金在氧化前进行洗涤。

3.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述步骤B）还包括：

将出光处理后的铜或铜合金置于钝化液中进行钝化处理。

4.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述氧化液包含：

浓硫酸或浓磷酸            10~15wt%；

过氧化物                  75~80wt%；

过硫酸盐                  1~5wt%；

明胶                      0.1~0.5wt%；

尿素                      1~5wt%；

醇类化合物                0.1~0.5wt%。

5.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述氧化液与出光液中的过氧化物各自独立的选自双氧水、过碳酸钠和过氧化碳酰胺中的一种。

6.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述过硫酸盐为过硫酸铵、过硫酸钾或过硫酸钠。

7.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述醇类化合物为甲醇、乙醇、乙二醇、一缩二乙二醇或二缩三乙二醇。

8.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述出光液包含：

浓硫酸或浓磷酸            20~30wt%；

过氧化物                  5~10wt%；

椰油酸二乙醇酰胺          0.2~0.5wt%；

苯并三氮唑类缓蚀剂        0.2~0.5wt%；

硝酸盐                    5~10wt%；

余量的水。

9.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述苯并三氮唑类缓蚀剂为苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑或巯基苯并三氮唑。

10.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述硝酸盐为硝酸钠或硝酸钾。