[发明专利]光配向光源系统及光配向工艺

权利要求书

1.一种光配向光源系统，对一第一基板及一第二基板进行光配向工艺，其特征在于，所述光配向光源系统包括：

一传输装置，移动所述第一基板及所述第二基板；以及

一光源模块，具有至少一发光元件，当所述传输装置移动所述第一基板及所述第二基板经过所述光源模块时，所述发光元件对所述第一基板分别进行第一次曝光及第二次曝光，及所述发光元件对所述第二基板分别进行第一次曝光及第二次曝光，

其中，于进行所述第一基板的第一次曝光及所述第二基板的第一次曝光时，所述第一基板及所述第二基板的移动方向相反，或者于进行所述第一基板的第二次曝光及所述第二基板的第二次曝光时，所述第一基板及所述第二基板的移动方向相反。

2.根据权利要求1所述的光配向光源系统，其特征在于，所述发光元件发出的光线为一偏振光线。

3.根据权利要求1所述的光配向光源系统，其特征在于，于进行所述第一基板的第二次曝光及所述第二基板的第一次曝光时，所述第一基板及所述第二基板同方向移动。

4.根据权利要求1所述的光配向光源系统，其特征在于，于进行第一次曝光及第二次曝光时，所述第一基板与所述第二基板是分别移动或同时移动。

5.根据权利要求1所述的光配向光源系统，其特征在于，于进行所述第一基板的第一次曝光时，所述第二基板进行基板交换、对准及曝光角度旋转工作，于进行所述第二基板的第二次曝光时，所述第一基板进行基板交换、对准及曝光角度旋转。

6.根据权利要求1所述的光配向光源系统，其特征在于，所述传输装置为线型，并带动所述第一基板及所述第二基板线性移动。

7.根据权利要求1所述的光配向光源系统，其特征在于，所述光配向光源系统更包括：

至少一移动平台，设置于所述传输装置上。

8.根据权利要求7所述的光配向光源系统，其特征在于，所述移动平台为一机械式平台或一气浮式平台。

9.根据权利要求7所述的光配向光源系统，其特征在于，所述移动平台为一第一移动平台及一第二移动平台，所述第一移动平台及所述第二移动平台分别承载所述第一基板及所述第二基板，所述传输装置分别通过移动所述第一移动平台及所述第二移动平台而移动所述第一基板及所述第二基板。

10.根据权利要求1所述的光配向光源系统，其特征在于，所述传输装置包含一线性电机及一导轨，或一气浮式移动装置。

11.根据权利要求1所述的光配向光源系统，其特征在于，所述光配向光源系统更包括：

一第一基板装载装置及一第二基板装载装置，分别设置于所述传输装置的两端，并分别装载及卸载所述第一基板及所述第二基板。

12.一种光配向工艺，其特征在于，一第一基板及一第二基板与一光配向光源系统配合，所述光配向光源系统包含一传输装置及一光源模块，所述光源模块具有至少一发光元件，当所述传输装置移动所述第一基板及所述第二基板经过所述光源模块时，所述发光元件对所述第一基板分别进行第一次曝光及第二次曝光，及所述发光元件对所述第二基板分别进行第一次曝光及第二次曝光，所述光配向工艺包括：

所述传输装置带动所述第一基板沿一第一方向移动，以对所述第一基板进行第一次曝光；

所述传输装置带动所述第一基板及所述第二基板沿一第二方向移动，以对所述第一基板进行第二次曝光，并对所述第二基板进行第一次曝光；以及

所述传输装置带动所述第二基板沿所述第一方向移动，以对所述第二基板进行第二次曝光。

13.根据权利要求12所述的光配向工艺，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向为相反方向。

14.根据权利要求12所述的光配向工艺，其特征在于，于进行第一次曝光及第二次曝光时，所述第一基板与所述第二基板是分别移动或同时移动。

15.根据权利要求12所述的光配向工艺，其特征在于，所述光配向工艺更包括：

通过一第一基板装载装置于所述传输装置的一端对所述第一基板进行装载及卸载；及

通过一第二基板装载装置于所述传输装置的另一端对所述第二基板进行装载及卸载。