[发明专利]荧光材料与紫外光发光装置有效

专利信息
申请号: 201210525888.1 申请日: 2012-12-07
公开(公告)号: CN103773371A 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 邱奕祯;叶耀宗;张学明;黄健豪;陈登铭;石刚菱;龚晏莹 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C09K11/81 分类号: C09K11/81;H01L33/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 荧光 材料 紫外光 发光 装置
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及一种荧光材料,更特别地涉及这种材料在紫外光发光装置中的应用。

【背景技术】

无机荧光材料(Phosphors),其激发与发光等项特性多是由「主体材料(Host materials)」、「活化剂/发光中心(Activators)」及其他「掺杂物(Dopants)」等组成因素所决定,亦即由不同的主体材料或掺杂物所组成的荧光材料,将可能具有相异的发光特性,而「组成」自然地也成为调控荧光材料光电特性的最重要因素。其中,无机荧光材料的主体材料多数由硫化物(Suldes)、氧化物(Oxides)、硫氧化物(Oxysuldes)与其他复合氧化物((Complex oxides)如硅酸盐(Silicates)、铝酸盐(Aluminates)、磷酸盐(Phosphates)等)所组成,近年来则有逐渐朝氮化物(Nitrides)与氮氧化物(Oxynitrides)发展的趋势;至于活化剂/发光中心则主要为过渡元素(Transition metal elements)或稀土族元素(Rare-earth elements)的离子为主。

未来光源需符合低汞/无汞的环保需求,因此高效率的氙准分子灯(Xe2*excimer lamp)有可能成为未来重要应用的光源。在实际应用时为符合发射波长的特性需求,氙准分子灯常需搭配荧光材料进行光转换。氙准分子灯主要的发射波长为172nm的真空紫外线(Vacuum ultra violet、VUV),经适当荧光材料光转换后,可发射UV-B(280~320nm)或UV-C(200~280nm)。UV-B可应用于光疗(Phototherapy),比如治疗牛皮癣(Psoriasis)、白斑病(Vitiligo)、异位性皮肤炎(Atopic dermatitis)等皮肤病。UV-C可应用于杀菌(Disinfection)或纯化(Purification;TOC reduction)等各项领域。目前能匹配氙准分子灯的紫外线发射荧光粉相当少见,因此亟需开发新颖的荧光粉以符和上述需求。

【发明内容】

本发明一实施例提供一种荧光材料,具有如下化学式:

M3-2xM’x(M”1-y-zPryGdz)(PO4)2,其中M为Li、Na、K、或上述的组合;M’为Ca、Sr、Ba、Mg、Zn、或上述的组合;M”为Sc、Y、La、Lu、Al、Ga、In、或上述的组合;0≤x≤1;0<y≤0.15;以及0<z≤0.7。

本发明一实施例提供一种紫外线发光装置,包括:激发光源;以及上述的荧光材料,其中激发光源的发射波长介于140nm至240nm。

【附图说明】

图1为本发明一实施例中,紫外光发光装置的示意图;

图2为本发明一实施例中,K3(Y1-yPry)(PO4)2在不同Pr3+活化剂掺杂比例(y分别为0.02、0.04、0.06、0.08、0.1、0.12、及0.14)下的发射光谱图;

图3为本发明一实施例中,K3(Y0.92Pr0.08)(PO4)2的激发光谱;

图4为本发明一实施例中,K3(Y1-zGdz)(PO4)2在不同Gd3+活化剂掺杂比例(z分别为0.3、0.4、0.5、0.6、及0.7)下的发射光谱图;

图5为本发明一实施例中,K3(Y0.92-zPr0.08Gdz)(PO4)2在不同Gd3+活化剂掺杂比例(z分别为0.3、0.4、0.5、0.6、及0.7)下的发射光谱图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210525888.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top