[发明专利]一种等离子体刻蚀工艺中刻蚀产额的建模方法

权利要求书

1.一种等离子体刻蚀工艺中刻蚀产额的建模方法，其特征在于，该方法将刻蚀产额模型Y_total进行参数化表示，然后利用优化算法和刻蚀剖面演化方法相结合计算出最优的一组控制参数，代入公式即可得到刻蚀产额模型Y_total；

该方法包括以下步骤：

1）设置优化算法、刻蚀剖面演化方法的初始参数，输入数值化的实际刻蚀剖面E_R；

2）根据优化算法的要求和刻蚀产额模型的控制参数的取值范围，形成由多组控制参数组成的初始控制参数集；

3）使用刻蚀剖面演化方法计算控制参数集中每组控制参数的适应值；

4）根据每组控制参数的适应值，利用优化算法搜索形成下一步控制参数集；

5）重复执行步骤3)-4),直到达到最大执行次数N_max或满足指定的精度后转步骤6）；

6）输出最优的控制参数，代入刻蚀产额模型参数化表示公式中，即得到等离子体刻蚀工艺中刻蚀产额的模型。

2.如权利要求1所述方法，其特征在于，所述步骤3）具体包括：

3.1）把控制参数集中每组控制参数和刻蚀剖面演化方法的初始参数作为输入，执行刻蚀剖面演化方法，计算得到一个模拟刻蚀剖面E_s；

3.2）计算实际刻蚀剖面E_R和模拟刻蚀剖面E_s之间的误差，如下；

e_s＝∫_Γw(x，y)dxdy

式中：Γ表示实际刻蚀剖面E_R和模拟刻蚀剖面E_s对应位置存在差异的区域；w(x,y)表示该区域Γ中的点(x,y)对于误差影响重要程度；

3.3）将该组控制参数的适应值赋为F_pop＝-e_s；

3.4）重复执行3.1）-3.3），计算得到控制参数集中每组控制参数的适应值。