[发明专利]一种去除光刻胶的清洗液

权利要求书

1.一种去除光刻胶的清洗液，其特征在于，包括季铵氢氧化物，醇胺，C₄-C₆多元醇及溶剂。

2.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵和羟乙基三甲基氢氧化铵等中的一种或多种。

3.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-（二乙氨基）乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的C₄-C₆多元醇选自苏阿糖、阿拉伯糖、木糖、核糖、核酮糖、木酮糖、葡萄糖、甘露糖、半乳糖、塔格糖、阿洛糖、阿卓糖、艾杜糖、塔罗糖、山梨糖、阿洛酮糖、果糖、苏糖醇、赤藓醇、核糖醇、阿拉伯糖醇、木糖醇、塔罗糖醇、山梨醇、甘露醇、艾杜糖醇和半乳糖醇中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、咪唑啉酮、吡咯烷酮、醇醚、酰胺中的一种或多种。

6.如权利要求5所述的清洗液，其特征在于，所述的亚砜较佳的为二甲基亚砜；所述的砜较佳的为环丁砜；所述的咪唑烷酮较佳的为1,3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述的咪唑啉酮较佳的为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的吡咯烷酮较佳的为N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羟乙基吡咯烷酮和N-环己基吡咯烷酮；所述的酰胺较佳的为二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺；所述的醇醚较佳的为乙二醇醚和丙二醇醚；所述的乙二醇醚较佳的为二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚；所述的丙二醇醚较佳的为二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚中的一种或多种。

7.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的季铵氢氧化物的含量为0.1-10wt％。

8.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺的含量为0.1-30wt％。

9.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的C₄-C₆多元醇的含量为0.1-10wt％。

10.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的溶剂的含量为45-95wt％。

11.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的清洗液包括去离子水。

12.如权利要求11所述的清洗液，其特征在于，所述的去离子水的含量为0.1-10wt％。

13.一种使用如权利要求1所述的清洗液清洗光刻胶的方法。