[发明专利]液晶显示器的制造方法及其产品

权利要求书

1.一种液晶显示器的制造方法，其特征在于，包括：

形成设置有柱形主隔垫物及柱形副隔垫物的彩膜基板；

形成设置有与所述柱形主隔垫物相对应的第一凹槽以及与所述柱形副隔垫物相对应的第二凹槽的阵列基板；

将所述彩膜基板与所述阵列基板对合，形成液晶显示器；

其中，所述柱形主隔垫物与所述第一凹槽之间以及所述柱形副隔垫物与所述第二凹槽之间分别设有间隙，所述柱形主隔垫物与所述柱形副隔垫物的高度相同，所述第二凹槽的深度大于所述第一凹槽的深度。

2.如权利要求1所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，在形成所述阵列基板之后，该方法还包括：在所述阵列基板的所述第一凹槽位置处形成透明导电层。

3.如权利要求2所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，在所述第一凹槽位置处形成铟锡氧化物层后，该方法还包括：对所述第二凹槽进行有机膜灰化，使所述第二凹槽的深度大于所述第一凹槽的深度。

4.如权利要求1所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，所述形成设置有柱形主隔垫物及柱形副隔垫物的彩膜基板包括：

在第一基板上形成黑矩阵；

在形成有所述黑矩阵的基板上形成彩色像素树脂层；以及

在形成有所述彩色像素树脂层的基板上设置高度相同的所述柱形主隔垫物及所述柱形副隔垫物，形成所述彩膜基板。

5.如权利要求1所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，所述形成设置有与所述柱形主隔垫物相对应的第一凹槽以及与所述柱形副隔垫物相对应的第二凹槽的阵列基板包括：

在第二基板上形成栅极和栅线、栅极绝缘层、有源层、源电极、漏电极、有机膜层和保护层；以及

在所述保护层及所述有机膜层上设置所述第一凹槽及所述第二凹槽，形成所述阵列基板。

6.一种液晶显示器，其特征在于，包括：相对设置的彩膜基板和阵列基板，以及填充于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶；

其中，所述彩膜基板上设置有柱形主隔垫物及柱形副隔垫物，所述柱形主隔垫物与所述柱形副隔垫物的高度相同；所述阵列基板上设置有与所述柱形主隔垫物相对应的第一凹槽以及与所述柱形副隔垫物相对应的第二凹槽；所述柱形主隔垫物与所述第一凹槽之间以及所述柱形副隔垫物与所述第二凹槽之间分别设有间隙，所述第二凹槽的深度大于所述第一凹槽的深度。

7.如权利要求6所述的液晶显示器，其特征在于，所述阵列基板上还设置有位于所述第一凹槽位置处的透明导电层。

8.如权利要求6所述的液晶显示器，其特征在于，所述彩膜基板包括：依次迭设的第一基板、黑矩阵及彩色像素树脂层；还包括位于所述彩色像素树脂层上的所述柱形主隔垫物及所述柱形副隔垫物。

9.如权利要求6所述的液晶显示器，其特征在于，所述阵列基板包括：依次迭设的第二基板、栅极和栅线、栅极绝缘层、有源层、源电极、漏电极、有机膜层及保护层；还包括位于所述保护层及所述有机膜层上的所述第一凹槽及所述第二凹槽。

10.如权利要求6至9中任一项所述的液晶显示器，其特征在于，所述第二凹槽与所述第一凹槽的深度差为0.1-2.0um。