[发明专利]一种用于离子注入机的宽束离子源装置在审
申请号: | 201210530299.2 | 申请日: | 2012-12-11 |
公开(公告)号: | CN103871809A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 彭立波 | 申请(专利权)人: | 北京中科信电子装备有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;H01J37/317 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 黄威;张彬 |
地址: | 101111 北京市中关村科技*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 离子 注入 离子源 装置 | ||
1.一种用于离子注入机的宽束离子源装置,包括源磁场铁芯、缠绕在所述源磁场铁芯上的源磁场线圈、弧室和引出电极,所述弧室的底部设有送气孔,所述弧室的顶部设有引出缝,所述引出电极设于所述引出缝外,其特征在于,所述弧室的一端设有第一灯丝和第一阴极,所述弧室的另一端设有第二灯丝和第二阴极,所述第一灯丝和第二灯丝分别连接灯丝电源,所述第一灯丝和第一阴极之间连接第一偏置电源,所述第二灯丝和第二阴极之间连接第二偏置电源,所述第一阴极与弧室之间连接第一弧压电源,所述第二阴极与弧室之间连接第二弧压电源。
2.根据权利要求1所述的用于离子注入机的宽束离子源装置,其特征在于,所述弧室内的底部设有气体匀流板,所述气体匀流板上带有多个匀流板气孔。
3.根据权利要求2所述的用于离子注入机的宽束离子源装置,其特征在于,所述多个匀流板气孔均匀布置在所述气体匀流板上。
4.根据权利要求1所述的用于离子注入机的宽束离子源装置,其特征在于,所述源磁场铁芯包括上铁芯和下铁芯,所述上铁芯和下铁芯布置在所述弧室的两侧,所述上铁芯和下铁芯关于所述弧室的沿长度方向的轴线对称,所述源磁场线圈包括缠绕在所述上铁芯上的上线圈和缠绕在所述下铁芯上的下线圈。
5.根据权利要求4所述的用于离子注入机的宽束离子源装置,其特征在于,所述上线圈和下线圈分别为单个线圈。
6.根据权利要求4所述的用于离子注入机的宽束离子源装置,其特征在于,所述上线圈和下线圈分别包括多个独立的子线圈。
7.根据权利要求6所述的用于离子注入机的宽束离子源装置,其特征在于,所述上线圈包括用于调节所述弧室的内部两端的磁场强度的第一子线圈和第二子线圈、以及用于调节所述弧室内中部的磁场强度的第三子线圈,所述第三子线圈位于所述第一子线圈和第二子线圈之间,所述下线圈与上线圈具有相同的结构。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的用于离子注入机的宽束离子源装置,其特征在于,所述引出缝的长度在300毫米以上。
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