[发明专利]一种磷掺杂氧化锌薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种磷掺杂氧化锌薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

原子层沉积设备通入含锌源气体和第一含氧源气体，在所述原子层沉积设备反应腔中的硅衬底表面生长氧化锌薄膜；所述硅衬底的表面预先采用RCA标准清洗法进行清洗，在所述硅衬底表面形成硅醇键；

所述原子层沉积设备通入含磷源气体和第二含氧源气体，在所述氧化锌薄膜表面生长磷氧键；

所述含锌源气体的进气时间为0.1s-1s，反应时间为10s～60s；所述第一含氧源气体和第二含氧源气体的进气时间均为0.1s-1s，反应时间均为10s～60s；所述含磷源气体的进气时间为0.1s-1s，反应时间为10s～60s；所述原子层沉积设备采用的载气为氮气；所述氮气的流量为1sccm-1000sccm；所述原子层沉积设备反应腔中用于承载硅衬底的基盘的温度为50℃-400℃。

2.如权利要求1所述的磷掺杂氧化锌薄膜的制备方法，其特征在于，所述含锌源气体为高挥发性、高纯度的有机锌化合物，包括二甲基锌或二乙基锌。

3.如权利要求1所述的磷掺杂氧化锌薄膜的制备方法，其特征在于，所述第一含氧源气体和第二含氧源气体均包括水蒸汽、臭氧或氧气。

4.如权利要求1所述的磷掺杂氧化锌薄膜的制备方法，其特征在于，所述含磷源气体为高挥发性、高纯度的有机磷化合物，包括三甲基磷或三乙基磷。

5.如权利要求1所述的磷掺杂氧化锌薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：采用所述载气吹扫所述原子层沉积设备反应腔，载气吹扫时间为30s-90s。