[发明专利]基于氮的施主-受主共掺氧化锌薄膜的制备方法有效
申请号: | 201210531536.7 | 申请日: | 2012-12-11 |
公开(公告)号: | CN103866268B | 公开(公告)日: | 2018-07-13 |
发明(设计)人: | 卢维尔;夏洋;李超波;张阳;解婧;董亚斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/44 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 氧化锌薄膜 次锌 共掺 施主掺杂 受主 复合沉积 氮掺杂 氧源 制备 反应腔室 腔室管道 受主元素 掺入量 掺杂源 次氮 次氧 放入 加热 掺杂 引入 | ||
1.一种基于氮的施主-受主共掺氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,包括:
将基片放入ALD反应腔室中,将腔室抽真空,对基片及腔室管道进行加热,然后进行多组分的复合沉积;
所述复合沉积包括:在真空环境下依次用第一次锌源、氧源、氮掺杂源、包含III主族元素X的施主掺杂源、第二次锌源、氧源和氮掺杂源进行沉积得到受主-施主-受主共掺的ZnO薄膜,所述第一次锌源、氮掺杂源、氧源、包含III主族元素X的施主掺杂源及第二次锌源在沉积室内暴露时间依次为0.15s、10s、0.07s、0.08s、0.08s;
所述复合沉积包括在第一次锌源沉积后,分别引入一次包含III主族元素X的施主掺杂源的掺杂沉积、第二次锌源沉积、至少两次氮掺杂源沉积及至少两次氧源沉积,形成N-X-N的共掺;所述氮掺杂源沉积和所述氧源的沉积顺序是先氧源沉积,后氮掺杂源沉积;所述包含III主族元素施主掺杂源沉积与所述第二次锌源沉积顺序是先包含III主族元素施主掺杂源沉积,后第二次锌源沉积。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述基片为经浓硫酸和双氧水处理,并经超纯水超声过的硅片、蓝宝石或玻璃,衬底表面带有羟基。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在每次沉积之后采用高纯氮气清洗沉积室,清洗时间为50s。
4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法,其特征在于,所述锌源是含锌的烷基化合物或含锌的卤化物,所述氧源是水蒸汽或氧气等离子体;所述氮掺杂源为N2O、N2、NO、NO2或NH3等离子体。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述含锌的卤化物是氯化锌ZnCl2,所述含锌的烷基化合物是二乙基锌Zn(C2H5)2或二甲基锌Zn(CH3)2。
6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述包含III主族元素X的施主掺杂源是含X的卤化物、含X的醇化物、含X的烷基化物、含X的氢化物、含X的环戊二烯基、含X的烷酰胺或含X的脒基。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述含X的卤化物是三氟化硼BF3,所述含X的醇化物是甲醇硼B(OCH3)3,所述含X的烷基化物是三甲基铝Al(CH3)3、三乙基铟In(CH2CH3)3或三乙基镓Ga(CH2CH3)3。
8.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,还包括:
通过控制所述的氮掺杂源与水蒸气的通气时间来调节掺杂氧化锌薄膜中氮掺杂源与氧的比例。
9.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,还包括:
通过控制III主族元素掺杂源与锌源的通气时间来调节掺杂氧化锌薄膜中施主掺杂与锌的比例。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的