[发明专利]一种π型SCR脱硝反应器均布流场的导流装置及方法

权利要求书

1.一种π型选择性催化还原法脱硝反应器均布流场的导流装置及方法，包括反应器前部烟道导流板(1)、反应器入口处导流板(2)与整流器(3)，其特征在于：所述导流板是两组导流装置，一处位于反应器前部烟道处，为均匀分布的3块弧度直板，一处位于反应器本体上方处，为非均匀分布的弧度直板，所述的整流器是烟气经两组导流板之后的再次导流，位于第一层催化剂上方，为均匀分布的正方形格子。 

2.根据权利要求1所述的π型选择性催化还原法脱硝反应器均布流场的导流装置及方法，其特征是：所述的导流板(2)，即弧度直板(Y1、Y2、Y3)均匀分布在反应器前部弯角烟道，由反应器前部弯烟道90℃弯角弧度与两端点相切、长度为R的直线共同组成的，弧度的中心点定位在直线8的三个均分点上。 

3.根据权利要求1所述的π型选择性催化还原法脱硝反应器均布流场的导流装置及方法，其特征是：所述的导流板(2)，即弧度直板(X1-X9)非均匀分布在反应器上方，由反应器内弯管道的90℃弯曲弧度(10)并在与弧相切的垂直末端加上长度为半径R的直线，其布置方式为X1-X5均匀布置在线(9)的前半段的五个均分点上，X6位于对角线(9)中心点，X7-X9位于对角线(9)后半段三个均分点上。 

4.根据权利要求1所述的π型选择性催化还原法脱硝反应器均布流场的导流装置及方法，其特征是：整流器(3)的布置与催化剂模块单元相对应，每个模块单元(11)对应均布的四个正方形整流器格子(12)。