[发明专利]光刻系统以及光刻方法

权利要求书

1.一种晶圆载物台，包括：

晶圆承载部，用于放置晶圆；以及

驱动装置，用于驱动晶圆承载部，使得晶圆承载部在与晶圆表面平行的平面内进行振荡运动。

2.根据权利要求1所述的晶圆载物台，其中所述振荡运动基本上为简谐振动。

3.根据权利要求1所述的晶圆载物台，还包括：

弹性梁，所述晶圆承载部经由所述弹性梁而与晶圆载物台的固定部分弹性连接，其中所述晶圆载物台的振荡运动的方向与所述弹性梁垂直。

4.根据权利要求3所述的晶圆载物台，其中所述弹性梁的截面为矩形，所述矩形包括长边和短边，矩形的长边与晶圆的表面垂直，矩形的短边与晶圆的表面平行。

5.根据权利要求3所述的晶圆载物台，其中所述弹性梁具有弯曲部分，该弯曲部分能够使弹性梁沿着弹性梁的长度方向伸长。

6.根据权利要求5所述的晶圆载物台，其中所述弯曲部分在晶圆承载部的振荡方向上的弹性系数大于整个弹性梁在晶圆承载部的振荡方向上的弹性系数。

7.根据权利要求5所述的晶圆载物台，其中所述弯曲部分的形状为“几”字型、“V”型或弧型。

8.根据权利要求1所述的晶圆载物台，其中所述驱动装置包括设置在所述晶圆承载部下方的电磁马达。

9.根据权利要求8所述的晶圆载物台，还包括：

监控装置，用于监控晶圆承载部的位置和速度；以及

补偿装置，用于根据晶圆承载部的位置来驱动所述电磁马达，从而对晶圆承载部的位置偏差进行补偿。

10.根据权利要求9所述的晶圆载物台，其中所述监控装置包括设置在所述晶圆承载部下方的位置测量装置。

11.根据权利要求10所述的晶圆载物台，其中所述位置测量装置为干涉计或标尺读取系统。

12.根据权利要求1所述的晶圆载物台，还包括：

步进缓冲装置，用于在晶圆载物台的步进过程中驱动所述晶圆载物台。

13.根据权利要求1所述的晶圆载物台，还包括：

悬浮装置，用于使所述晶圆承载部悬浮在空中。

14.根据权利要求13所述的晶圆载物台，其中所述悬浮装置为磁悬浮装置或气垫悬浮装置。

15.一种掩膜载物台，包括：

掩膜承载部，用于放置掩膜；以及

驱动装置，用于驱动掩膜承载部，使得掩膜承载部在与掩膜表面平行的平面内进行振荡运动。

16.根据权利要求15所述的掩膜载物台，其中所述振荡运动基本上为简谐振动。

17.根据权利要求15所述的掩膜载物台，还包括：

弹性梁，所述掩膜承载部经由所述弹性梁而与掩膜载物台的固定部分弹性连接，其中所述掩膜载物台的振荡运动的方向与所述弹性梁垂直。

18.根据权利要求17所述的掩膜载物台，其中所述弹性梁的截面为矩形，所述矩形包括长边和短边，矩形的长边与掩膜的表面垂直，矩形的短边与掩膜的表面平行。

19.根据权利要求17所述的掩膜载物台，其中所述弹性梁具有弯曲部分，该弯曲部分能够使弹性梁沿着弹性梁的长度方向伸长。

20.根据权利要求19所述的掩膜载物台，其中所述弯曲部分在掩膜承载部的振荡方向上的弹性系数大于整个弹性梁在掩膜承载部的振荡方向上的弹性系数。

21.根据权利要求19所述的掩膜载物台，其中所述弯曲部分的形状为“几”字型、“V”型或弧型。

22.根据权利要求15所述的掩膜载物台，其中所述驱动装置包括设置在所述掩膜承载部下方的电磁马达。

23.根据权利要求22所述的掩膜载物台，还包括：

监控装置，用于监控掩膜承载部的位置和速度；以及

补偿装置，用于根据掩膜承载部的位置来驱动所述电磁马达，从而对掩膜承载部的位置偏差进行补偿。

24.根据权利要求23所述的掩膜载物台，其中所述监控装置包括设置在所述掩膜承载部下方的位置测量装置。