[发明专利]等离子体增强化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括上电极板、下电极板、射频盖和扩散板；所述上电极板通过所述射频盖与射频电源连通，所述下电极板接地；所述射频盖上设有进气管，所述射频盖与所述上电极板连接形成匀流腔；所述上电极板开设有若干通孔，所述上电极板下方为反应腔，所述下电极板位于所述反应腔中；其特征在于，所述等离子体增强化学气相沉积设备，还包括驱动器；

所述扩散板位于所述进气管下方，且与所述驱动器相连，所述驱动器带动所述扩散板相对所述射频盖上下移动。

2.根据权利要求1所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述设备，还包括罩在所述射频盖上方的屏蔽罩，所述驱动器设置于所述屏蔽罩外。

3.根据权利要求1所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述扩散板上固连有升降轴，所述驱动器的运动轴通过联轴器与所述升降轴联接。

4.根据权利要求3所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述进气管的上半段包含有波纹管，所述升降轴贯穿于所述进气管中；

所述进气管侧面设有进气孔，所述进气管的上端与所述升降轴通过焊接密封。

5.根据权利要求1至4任一项所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述进气管下端与所述射频盖之间通过密封圈或者金属密封圈密封。

6.根据权利要求1至4任一项所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述扩散板呈圆形平板状、椭圆形平板状、圆锥状或椭圆锥状。

7.根据权利要求1所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述扩散板上开设有若干透气孔。

8.根据权利要求1所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述驱动器为直线电机、丝杠机或气缸。

9.根据权利要求1所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述下电极板下端固连有主轴，所述下电极板通过所述主轴接地，所述主轴可带动所述下电极板上下移动。

10.根据权利要求1所述的等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述上电极板开设有若干通孔，工艺气体通过所述通孔流至所述反应腔。