[发明专利]耐高温且高吸收力的金属表面镀膜及其制造方法

权利要求书

1.一种耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法，其特征在于，包括下列步骤：

A.提供一金属基材，并对前述金属基材施予一清洁之前处理；

B.将前述金属基材施予一抛光处理；

C.对前述金属基材施予阳极处理，前述阳极处理的额定电压控制在40伏特至60伏特，处理的额定温度控制在0°C至10°C，以在前述金属基材上形成一具有微细孔洞的多孔氧化层。

2.如权利要求1所述耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法，其特征在于：前述金属基材为铝、铝合金、铁、铁合金、镍、镍合金、铜、铜合金、锡、锡合金的任一种。

3.如权利要求1所述耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法，其特征在于：前述阳极处理的电解液为一硫酸液、一草酸液、一铬酸液、一磷酸液的任一种或混合。

4.如权利要求3所述耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法，其特征在于：前述阳极处理的电解液为0.3摩尔浓度的硫酸液。

5.如权利要求1所述耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法，其特征在于：前述阳极处理的持续时间为60分钟±5分钟。

6.如权利要求1所述耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法，其特征在于：前述阳极处理的处理的额定温度控制在0°C，而额定电压控制在50伏特。

7.如权利要求1所述耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法，其特征在于：前述多孔氧化层的厚度介于86um至128um、孔隙率介于2.7％至4.2％、平均孔洞尺寸介于8.2nm至9nm。

8.如权利要求1所述耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法，其特征在于：前述前处理依序进行一碱洗处理、一中和处理及一去脂处理。

9.如权利要求1所述耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法，其特征在于：前述抛光处理为电化学抛光处理，处理温度控制在25°C至30°C，而额定电压控制在10伏特，而抛光液为氯酸与乙醇的混合液，并持续5min。

10.一种以权利要求1的耐高温且高吸收力的金属表面镀膜制造方法所制成的耐高温且高吸收力的金属表面镀膜，其特征在于，包含：

一金属基材；

前述金属基材上设置有一具有微细孔洞的多孔氧化层，前述多孔氧化层的厚度介于86um至128um，平均孔洞尺寸介于8.2nm至9nm。

11.如权利要求10所述耐高温且高吸收力的金属表面镀膜，其特征在于：前述多孔氧化层的孔隙率介于2.7％至4.2％。