[发明专利]一种基板的制作方法

权利要求书

1.一种基板的制作方法，包括：在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案；其特征在于，在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案包括：

在透明基板上制作第一薄膜，并通过构图工艺在所述透明基板的至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第一辅助图案，同时在显示区域形成显示用图案；其中，

所述第一薄膜为所述至少两层薄膜中除最后一层薄膜外的任一层；所述第一边缘与光刻胶涂布方向垂直，所述第一辅助图案沿所述光刻胶涂布方向的横截面的至少一侧边为阶梯状。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案包括：在透明基板上制作至少三层导电薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案；

所述第一薄膜为所述至少三层导电薄膜中除最后一层导电薄膜外的任一层。

3.根据要求2所述的方法，其特征在于，所述在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案还包括：

在透明基板上制作第二薄膜，并通过构图工艺在所述至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第二辅助图案，同时在显示区域形成显示用图案；其中，

所述第二薄膜为所述至少两层薄膜中除最后一层导电薄膜和所述第一薄膜外的任一层导电薄膜；所述第二辅助图案横截面呈矩形状。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一辅助图案位于所述第二辅助图案之上。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案还包括：

在透明基板上制作半导体薄膜，并通过构图工艺在所述至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第三辅助图案，同时在显示区域形成显示用图案；其中，所述第三辅助图案横截面呈矩形状，且所述第三辅助图案位于所述第一辅助图案之下。

6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述至少三层导电薄膜包括：源漏金属薄膜、栅金属薄膜、像素电极薄膜。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在透明基板上制作第一薄膜，并通过构图工艺在所述透明基板的至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第一辅助图案，同时在显示区域形成显示用图案包括：

所述在透明基板上制作源漏金属薄膜，并通过构图工艺在所述透明基板的至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第一辅助图案，同时在显示区域形成源漏极图案。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案包括：在透明基板上制作至少四层树脂薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案；

所述第一薄膜为所述至少四层树脂薄膜中除最后一层树脂薄膜外的任一层。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第一薄膜为最先制作形成的树脂薄膜。

10.根据权利要求1至9任一项所述的方法，其特征在于，所述至少一个第一边缘为两个第一边缘。

11.根据权利要求1至9任一项所述的方法，其特征在于，所述第一辅助图案的横截面为对称形状。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述第一辅助图案包括第一部分、第二部分和第三部分，所述第一部分的厚度高于所述第二部分或第三部分的厚度，且所述第二部分和第三部分分别位于所述第一部分的左右两侧，在光刻胶涂布方向上，第一部分的长度为0.2mm-0.5mm，第二部分的长度为0.2mm-0.5mm，第三部分的长度为0.2mm-0.5mm。

13.根据权利要求1至9任一项所述的方法，其特征在于，所述第一辅助图案距离所述第一边缘20cm～30cm。