[发明专利]图案形成膜的刻蚀条件的测评

权利要求书

1.一种测评光掩模坯料的图案形成膜的刻蚀条件的方法，该光掩模坯料包含透明衬底、该衬底上用于形成光掩模图案的所述图案形成膜以及图案形成膜上用于在图案形成膜的刻蚀期间作为掩模的刻蚀掩模膜，

包括步骤：

测量第一刻蚀完成时间(C1)，其是在施加于图案形成膜的刻蚀条件下通过氟基干法刻蚀刻蚀该刻蚀掩模膜时所花费的时间，此时由图案形成膜形成光掩模图案，

测量第二刻蚀完成时间(C2)，其是在所述刻蚀条件下通过氟基干法刻蚀刻蚀该图案形成膜时所花费的时间，以及

计算第一与第二刻蚀完成时间的比值(C1/C2)，由此测评用于图案形成膜的所述刻蚀条件，

其中图案形成膜由包含硅的材料形成，并且刻蚀掩模膜由包含铬的无硅材料或包含钽的无硅材料形成。

2.如权利要求1所述的测评方法，其中图案形成膜由包含硅和其它金属的材料形成，并且刻蚀掩模膜由包含铬的无硅材料形成。

3.如权利要求1所述的测评方法，其中包含硅的材料还包含其他金属。