[发明专利]光刻胶喷嘴及利用该喷嘴确定光刻胶喷涂中心的方法在审
| 申请号： | 201210544221.6 | 申请日： | 2012-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN103869624A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 周敏祺;陈群琦 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;B05B1/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 刘昌荣 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 喷嘴 利用 确定 喷涂 中心 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光刻胶喷嘴，其特征在于，喷嘴的内部安装有光纤，外部带有镭射光源，喷嘴的侧面开槽，光纤经由槽引出，与镭射光源连接。
2.利用权利要求1的光刻胶喷嘴确定光刻胶喷涂中心的方法，其特征在于，步骤包括：
1）通过曝光、刻蚀，在晶圆的中心位置制作出对准标记；
2）将晶圆传送至涂布工艺单元；
3）将所述光刻胶喷嘴安装到光刻胶喷涂装置上，移动至晶圆上方；
4）打开镭射光源，调整光刻胶喷嘴的位置，使投射到晶圆上的镭射光斑位于晶圆对准标记的中心。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤3），所述光刻胶喷嘴距离晶圆表面的高度为4毫米。
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