[发明专利]一种氧化锌薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201210545161.X 申请日: 2012-12-14
公开(公告)号: CN103866284A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 解婧;李超波;夏洋 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/56;C23C16/40
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 氧化锌 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)将衬底放置于原子层沉积设备反应腔中;

(2)向所述原子层沉积设备反应腔中通入含锌前驱体源,所述含锌前驱体源中的锌原子吸附于所述衬底表面;

(3)向所述原子层沉积设备反应腔中通入含氮前驱体源,然后通过等离子体将所述含氮前驱体源电离,电离后所述含氮前驱体源中的氮原子部分沉积,与所述衬底表面的锌原子形成氮锌共价键;或,通过等离子体将含氮前驱体源电离,然后将电离的所述含氮前驱体源通入所述原子层沉积设备反应腔中,电离后所述含氮前驱体源中的氮原子部分沉积,与所述衬底表面的锌原子形成氮锌共价键;

(4)重复所述步骤(2)和步骤(3)即可逐层生长氮化锌薄膜;

(5)将所述氮化锌薄膜进行热氧化,或者向所述原子层沉积设备反应腔中通入含氧前驱体源,实现氧替位氮的有效掺杂,得到氧化锌薄膜。

2.如权利要求1所述的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)之前还包括步骤:所述衬底的表面经过处理,所述衬底处理后的表面吸附有羟基。

3.如权利要求1所述的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中将衬底放置于原子层沉积设备反应腔中可通过手动放置、机械手放置或软件控制机械手放置。

4.如权利要求1所述的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中的含锌前驱体源为二甲基锌、二乙基锌或醋酸丙酮锌。

5.如权利要求1所述的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中的含氮前驱体源为氮气、一氧化氮、二氧化氮、氨气。

6.如权利要求1所述的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中所述等离子体电离所述含氮前驱体源的放电功率为10W~100W,放电时间为1s~5s。

7.如权利要求1所述的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)还包括:所述含锌前驱体源中的锌原子吸附于所述衬底表面后,吹扫所述原子层沉积设备反应腔,使所述原子层沉积设备反应腔恢复本底真空,所述本底真空的范围是0.0001Torr~0.1Torr。

8.如权利要求1所述的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)还包括:形成氮锌共价键后,吹扫所述原子层沉积设备反应腔,使所述原子层沉积设备反应腔恢复本底真空,所述本底真空的范围是0.0001Torr~0.1Torr。

9.如权利要求8所述的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)还包括:所述原子层沉积设备反应腔恢复本底真空后,调整所述衬底上沉积物表面反应活性。

10.如权利要求1所述的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(5)中通入的含氧前驱体源为氧气或水。

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