[发明专利]一种物理气相沉积用遮蔽涂料及其制备方法

权利要求书

1.一种物理气相沉积用遮蔽涂料，其特征在于，由以下质量百分比的原料制成：遮蔽剂10%～30%，粘接剂1%～5%，分散剂0.1%～0.5%，余量为有机溶剂；所述遮蔽剂为碳酸钙、碳酸钡、二氧化钛、硫酸钡、氯化银、碳酸银、氢氧化银、氧化铝、碳酸锌、氢氧化锌或氢氧化铁，所述分散剂为有机膨润土或/和气相二氧化硅，所述粘接剂为醇酸树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或多元醇松香酯，所述有机溶剂为酮类有机溶剂、酯类有机溶剂或芳香烃类有机溶剂。

2.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积用遮蔽涂料，其特征在于，由以下质量百分比的原料制成：遮蔽剂15%～25%，粘接剂1%～5%，分散剂0.1%～0.4%，余量为有机溶剂。

3.根据权利要求2所述的一种物理气相沉积用遮蔽涂料，其特征在于，由以下质量百分比的原料制成：遮蔽剂20%，粘接剂3%，分散剂0.2%，余量为有机溶剂。

4.根据权利要求1、2或3所述的一种物理气相沉积用遮蔽涂料，其特征在于，所述酮类有机溶剂为丙酮，所述酯类有机溶剂为乙酸乙酯，所述芳香烃类有机溶剂为二甲苯或苯。

5.一种制备如权利要求1、2或3所述物理气相沉积用遮蔽涂料的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、按质量百分比分别称取遮蔽剂、粘接剂、分散剂和有机溶剂；

步骤二、将步骤一中称取后的粘接剂加入称取后的有机溶剂中，混合均匀后得到粘接溶液；

步骤三、将步骤一中称取后的遮蔽剂进行粉碎处理，然后加入步骤二中所述粘接溶液中，混合均匀后置于研磨机中研磨30min～40min，得到混合溶液；

步骤四、将步骤一中称取后的分散剂加入步骤三中所述混合溶液中，混合均匀后得到物理气相沉积用遮蔽涂料。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，步骤三中经粉碎处理后的遮蔽剂的平均粒度不大于10μm。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，步骤三中所述研磨机为滚筒研磨机。