[发明专利]一种光刻胶去除剂在审
申请号: | 201210546307.2 | 申请日: | 2012-12-17 |
公开(公告)号: | CN103869636A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 刘兵;彭洪修;孙广胜;颜金荔 | 申请(专利权)人: | 安集微电子科技(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 去除 | ||
1.一种光刻胶去除剂,其包含:季铵氢氧化物,醇胺,糖和/或糖醇,表面活性剂以及溶剂。
2.如权利要求1所述的光刻胶去除剂,其特征在于:所述季铵氢氧化物的浓度为0.1~10wt%,所述醇胺的浓度为0.1~30wt%,所述糖和/或糖醇的浓度为0.1~5wt%,所述表面活性剂的浓度为0.01~3wt%,所述溶剂的含量为余量。
3.如权利要求2所述的光刻胶去除剂,其特征在于:所述季铵氢氧化物的浓度为1~5wt%,所述醇胺的浓度为0.1-15wt%,所述糖和/或糖醇的浓度为0.1~3wt%,所述表面活性剂的浓度为0.1~1wt%。
4.如权利要求2或3所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述季铵氢氧化物与所述醇胺的质量比为6比1与1比2.5之间。
5.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵、羟乙基三甲基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。
6.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:本发明中所述的醇胺选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或几种。
7.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的糖和/或糖醇选自苏阿糖、阿拉伯糖、木糖、核糖、核酮糖、木酮糖、葡萄糖、甘露糖、半乳糖、塔格糖、阿洛糖、阿卓糖、艾杜糖、塔罗糖、山梨糖、阿洛酮糖、果糖、苏糖醇、赤藓醇、核糖醇、阿拉伯糖醇、木糖醇、塔罗糖醇、山梨醇、甘露醇、艾杜糖醇和半乳糖醇中的一种或者几种。
8.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
9.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的溶剂选自有机溶剂或有机溶剂与水的混合物。
10.如权利要求9所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的有机溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或多种。
11.如权利要求10所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的亚砜选自二甲基亚砜和甲乙基亚砜中的一种或多种;所述的砜选自甲基砜和环丁砜中的一种或多种;所述的咪唑烷酮选自2-咪唑烷酮和1,3-二甲基-2-咪唑烷酮中的一种或多种;所述的吡咯烷酮选自N-甲基吡咯烷酮、N-环己基吡咯烷酮和N-羟乙基吡咯烷酮中的一种或多种;所述的咪唑啉酮为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮;所述的酰胺选自二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的一种或多种;所述的醇醚选自二乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚和二丙二醇单甲醚中的一种或多种。
12.如权利要求9所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的溶剂选自有机溶剂与水的混合物时,混合物中水的含量不超过10wt%。
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