[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括透明基板，设置在所述透明基板上的黑矩阵单元和彩色树脂层，其特征在于，所述黑矩阵单元包括：

作为所述彩色树脂层形成基础的第一子黑矩阵；和位于所述第一子黑矩阵之上，且在所述彩色树脂层形成后填充于所述彩色树脂层之间的第二子黑矩阵；

所述第一子黑矩阵的至少一部分被在所述第一子黑矩阵之后形成的所述彩色树脂层覆盖，且所述第一子黑矩阵的厚度和所述第二子黑矩阵的厚度之和不小于满足遮光需求的最小厚度值。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一子黑矩阵的厚度小于0.5um。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵单元的厚度小于所述彩色树脂层的厚度，所述透明基板上还设置有用于消除所述彩色树脂层的段差和所述彩色树脂层与所述黑矩阵单元之间的角段差的平坦层。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述平坦层的厚度小于1um。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，还包括设置在所述平坦层上的柱状隔垫物。

6.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵单元的厚度等于所述彩色树脂层的厚度。

7.根据权利要求1-6任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：屏蔽保护层，所述屏蔽保护层位于所述透明基板与所述黑矩阵单元以及彩色树脂层相反的一侧。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的彩膜基板。

9.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

在透明基板的一面形成第一子黑矩阵图形；

在所述第一子黑矩阵图形上形成与所述第一子黑矩阵图形的开口区域相对应的彩色树脂层，所述第一子黑矩阵图形的保留区域的至少一部分被所述彩色树脂层覆盖；

制作第二子黑矩阵图形，所述第二子黑矩阵图形的保留区域位于所述彩色树脂层的未保留区域。

10.根据权利要求9所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述彩色树脂层的厚度大于所述第一子黑矩阵图形的厚度与所述第二子黑矩阵的厚度之和时，还包括步骤：

在所述彩色树脂层和所述第二子黑矩阵图形上形成平坦层。

11.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，还包括步骤：

在所述平坦层的上方形成柱状隔垫物。

12.根据权利要求9-11任一项所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，还包括步骤：

在透明基板与所述黑矩阵单元以及彩色树脂层相反的一侧形成屏蔽保护层。