[发明专利]电子设备及其键盘

权利要求书

1.键盘，包括：

键盘底板；

键帽，所述键帽与所述键盘底板之间设置有剪刀脚；其特征在于，还包括：

位移阻力调节装置，设置于所述剪刀脚的第一横向位移端，以根据工作状态下所述剪刀脚的姿态调节所述第一横向位移端的位移阻力；并配置成：非工作状态下的所述位移阻力调节装置施加的位移阻力为零，所述剪刀脚位于竖向回收、横向伸展的非工作位置；

所述位移阻力调节装置包括第一磁性部件和第二磁性部件，两者可沿所述第一横向位移端的位移方向形成互斥力；其中，所述第一磁性部件与所述第一横向位移端相抵，所述第二磁性部件固定设置，且所述第一磁性部件和/或所述第二磁性部件的磁力大小可根据所述剪刀脚的工作姿态调节。

2.根据权利要求1所述的键盘，其特征在于，所述第一磁性部件和第二磁性部件均为电磁铁；在所述第一磁性部件和第二磁性部件之间设置有磁力检测装置，以检测两者之间的磁通量变化参量并输出至处理单元；所述处理单元根据所述磁通量变化参量输出调整所述第一磁性部件和第二磁性部件的通电电流的控制信号，以调节所述第一磁性部件和第二磁性部件的磁力大小。

3.根据权利要求2所述的键盘，其特征在于，所述磁力检测装置具体为封闭导电线圈，所述磁通量变化参量根据所述封闭导电线圈内电流的变化确定。

4.根据权利要求2或3所述的键盘，其特征在于，所述键帽下压过程中，所述处理单元根据磁通量变化参量输出调整所述通电电流逐渐减小的第一控制信号。

5.根据权利要求4所述的键盘，其特征在于，所述键帽复位过程中，所述处理单元根据磁通量变化参量输出调整所述通电电流逐渐增大的第二控制信号。

6.根据权利要求5所述的键盘，其特征在于，所述键帽下压过程中，当所述磁通量变化参量与预设的触发阈值一致时，所述处理单元获得所述键帽为触发状态的判断结果。

7.根据权利要求6所述的键盘，其特征在于，所述第一磁性部件沿第一限位槽相对于所述第二磁性部件位移，所述第一横向位移端上方的所述剪刀脚的第二横向位移端沿第二限位槽位移。

8.根据权利要求7所述的键盘，其特征在于，所述剪刀脚的第一横向位移端内置于所述第一限位槽内与所述第一磁性部件相抵，所述第二磁性部件固定设置于所述第一限位槽内。

9.根据权利要求4所述的键盘，其特征在于，所述键帽下压过程中，设置于所述键帽上的接触柱与薄膜电路上的触点相抵时，所述处理单元获得所述键帽为触发状态的判断结果。

10.一种电子设备，包括设备本体，及用于输入指令的键盘；其特征在于，所述键盘包括：

键盘底板；

键帽，所述键帽与所述键盘底板之间设置有剪刀脚；和

位移阻力调节装置，设置于所述剪刀脚的第一横向位移端，以根据工作状态下所述剪刀脚的姿态调节所述第一横向位移端的位移阻力；并配置成：非工作状态下的所述位移阻力调节装置施加的位移阻力为零，所述剪刀脚位于竖向回收、横向伸展的非工作位置；

所述位移阻力调节装置包括第一磁性部件和第二磁性部件，两者可沿所述第一横向位移端的位移方向形成互斥力；其中，所述第一磁性部件与所述第一横向位移端相抵，所述第二磁性部件固定设置，且所述第一磁性部件和/或所述第二磁性部件的磁力大小可根据所述剪刀脚的工作姿态调节。

11.根据权利要求10所述的电子设备，其特征在于，所述第一磁性部件和第二磁性部件均为电磁铁；在所述第一磁性部件和第二磁性部件之间设置有磁力检测装置，以检测两者之间的磁通量变化参量并输出至处理单元；所述处理单元根据所述磁通量变化参量输出调整所述第一磁性部件和第二磁性部件的通电电流的控制信号，以调节所述第一磁性部件和第二磁性部件的磁力大小。