[发明专利]一种掩膜板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学领域，尤其涉及一种掩膜板及其制作方法。

背景技术

随着显示技术的发展，大尺寸，高品质，低成本的显示器件成为一种发展趋势，那么，对于作为显示器件（例如TFT-LCD显示器件）的主要组成部分之一的彩色滤光片，它的质量直接决定显示器件的显示效果。

目前，在制作彩色滤光片时，多采用接近式曝光机光学系统曝光的方式，通常在使用接近式曝光机光学系统中的基板101(例如玻璃基板)、掩膜板102和光刻胶103制作彩色滤光片时，弯曲前的掩膜板102与基板101之间的距离一般在一百微米至数百米以内，这样的话，对于掩膜板而言，在曝光时其弯曲将会造成掩膜板102上中心区域和边缘区域与基板101在垂直方向上形成的曝光间距不同，例如掩膜板102上中心区域与基板101之间的曝光间距G2小于掩膜板102上边缘区域与基板101之间的曝光间距G1(如图1所示)，通常在制作工艺过程中，由于接近式曝光机光学系统在曝光时受衍射角、光线平行度等因素的影响，基板上曝光出的图形尺寸(CD)随着各区域的曝光间距的增大而增大（如图2所示，），这样一来，在曝光量相同的情况下，由于中心区域的曝光间距小，边缘区域的曝光间距大，从而造成中心区域曝光出的图形的尺寸较小，边缘区域曝光出的图形尺寸较大，即曝光出的图形尺寸大小不均一(例如CD2＜CD1，如图1所示)，也就是说，使用前述这种掩膜板曝光出的图形尺寸的均一度较差。

从上述制作方式可以看出，在接近式曝光机光学系统曝光时，由于掩膜板的弯曲导致各区域处的曝光间距发生变化，致使基板上曝光后的图形尺寸的均一度较差，进而影响彩色滤光片的质量。

发明内容

本发明实施例提供了一种掩膜板及其制作方法，用以解决现有掩膜板弯曲导致的曝光后的图形尺寸均一度较差的问题。

基于上述问题，本发明实施例提供的一种掩膜板，应用于大尺寸接近式曝光机光学系统，所述掩膜板包括多个区域，每个区域为以所述掩膜板的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离所述掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离所述掩膜板的中心点越远的区域，其对应的透过率越低。

本发明实施例提供的一种如上所述的掩膜板的制作方法，包括：

制备包括多个区域的光学薄膜，每个区域为以所述掩膜板的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离所述掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离所述掩膜板的中心点越远的区域，其对应的透过率越低；

将光学薄膜贴附于普通掩膜板上，制成掩膜板。

本发明实施例的有益效果包括：本发明实施例提供的一种掩膜板及其制作方法，该掩膜板包括多个区域，每个区域为以掩膜板的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离掩膜板的中心点越远的区域，其对应的透过率越低，这样一来，在接近式曝光机曝光时，曝光出的图形尺寸通常是随着曝光量的增大而增大，随着曝光间距的减小而减小的，以掩膜板上离掩膜板的中心点最近的区域为例，此处的曝光间距最小，但是此处的透过率较高，这样就使得此区域可以获得较大的曝光量，相对弥补了曝光间距小对图形尺寸的变化，在一定程度上提高了曝光出的图形尺寸的均一度。

附图说明

图1为现有大尺寸接近式曝光机光学系统曝光时掩膜板的工作示意图；

图2为现有大尺寸接近式曝光机光学系统中基板上曝光出的图形尺寸与掩膜板上各个区域的曝光间距之间的关系曲线图；

图3为本发明实施例提供的使用掩膜板制作滤光片时曝光出的图形尺寸示意图；

图4为本发明实施例提供的大尺寸接近式曝光机的掩膜板的结构图；

图5为本发明实施例提供的掩膜板的中心点与掩膜板边缘上的交点之间的距离的示意图；

图6为本发明实施例提供的掩膜板上的选取点相对于离中心点最近的区域处曝光出的图形的尺寸变化与该选取点相对于离中心点最近的区域的曝光量的变化量的关系示意图；

图7为本发明实施例提供的掩膜板的制作方法流程图。

具体实施方式

由于现有的掩膜板在接近式曝光机光学系统曝光时会发生弯曲，由此使得弯曲后的掩膜板上中心区域的曝光间距(即此区域与接近式曝光机的基板在垂直方向上形成的距离)，较边缘区域的曝光间距较小，这样，在曝光量等其他条件确定的情况下，使得基板上中心区域曝光出的图形尺寸较小，边缘区域的图形尺寸稍大，这样就导致曝光出的图形尺寸的均一度较差。基于上述问题，本发明提供一种掩膜板及其制作方法，可以在一定程度上提高了曝光出的图形尺寸的均一度。