[发明专利]用于硼扩散的涂布液有效
申请号: | 201210548232.1 | 申请日: | 2012-09-29 |
公开(公告)号: | CN103059666B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 月形信太郎;松冈敏文;渡部武纪;大塚宽之 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C09D129/04 | 分类号: | C09D129/04;C09D129/14;C09D131/04;C09D7/12;H01L31/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 任宗华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 扩散 涂布液 | ||
1.一种用于将硼扩散到硅衬底中以形成p型扩散层的涂布液,其包括硼化合物、有机粘结剂、硅化合物、氧化铝前体、以及水和/或有机溶剂。
2.权利要求1的涂布液,其中,该硼化合物的存在量按重量计算为该涂布液的至多4%。
3.权利要求1的涂布液,其中,该有机粘结剂为聚乙烯醇,并且其存在量按重量计算为该涂布液的至多4%。
4.权利要求1的涂布液,其中,该硅化合物为二氧化硅,并且其存在量按重量计算为该涂布液的至多5%。
5.权利要求1的涂布液,其中,该氧化铝前体为能经热处理形成氧化铝的化合物,并且其存在量按重量计算为该涂布液的至多8%。
6.权利要求1的涂布液,其在25℃下粘度为80到140mPa-s。
7.一种用权利要求1的涂布液制造半导体器件的方法。
8.权利要求7的方法,其中该半导体器件为太阳能电池。
9.权利要求8的方法,包括如下步骤:
提供具有纹理的n型硅衬底,
施加权利要求1的涂布液到硅衬底的一个表面,
使p型扩散层形成,
在硅衬底的另一个表面上形成n型扩散层,
在每个扩散层上形成防反射涂层,以及
形成电极。
10.由权利要求7的方法制造的一种半导体器件。
11.由权利要求8的方法制造的一种太阳能电池。
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