[发明专利]建立检查对象的磁共振图像的方法以及相应的磁共振设备在审

专利信息
申请号: 201210548262.2 申请日: 2012-12-17
公开(公告)号: CN103163497A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: K.T.布洛克;M.芬切尔 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: G01R33/561 分类号: G01R33/561;G01R33/56;A61B5/055
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 谢强
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 建立 检查 对象 磁共振 图像 方法 以及 相应 设备
【权利要求书】:

1.一种通过利用磁共振设备(5)的接收线圈元件(24)探测检查对象的MR信号来建立检查对象的MR图像(33)的方法,

其中,所述方法包括以下步骤:

确定所述接收线圈元件(24)的位置相关的灵敏度,

根据所述接收线圈元件(24)的灵敏度建立对于该接收线圈元件的掩模(31),以便借助该掩模(31)来遮盖MR图像的如下区域:在该区域中接收线圈元件(24)具有至少一个预定的灵敏度(26),

接通至少一个HF激励脉冲和至少一个磁场梯度,以便利用所述接收线圈元件(24)采集MR数据,

根据由该接收线圈元件(24)所采集的MR数据来建立临时MR图像,

将所述接收线圈元件(24)的掩模(31)应用到所述临时MR图像,以便建立该接收线圈元件(24)的MR图像,和

根据对所述接收线圈元件(24)所建立的MR图像来建立检查对象的总MR图像(33)。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

按照以下步骤建立所述接收线圈元件(24)的掩模(31):

根据仅仅通过该接收线圈元件(24)所采集的MR数据建立特定的MR图像(30),和

根据特定的MR图像中最大的像素值来建立该收线圈元件(24)的掩模(31)。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,

通过将最大的像素值乘以预定的百分数来确定阈值像素值(26),

从特定的MR图像的像素出发对像素值曲线(25)进行插值,和

对于该掩模(31),对所述临时MR图像的每个像素建立一个掩模值,其中,如果该临时MR图像的各自的像素的像素值按照所述像素值曲线(25)小于阈值像素值(26)时,各自的图像像素的掩模值获得第一值,否则,获得第二值。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

按照以下步骤建立所述接收线圈元件的掩模(31):

根据仅通过接收线圈元件(24)采集的MR数据建立特定的MR图像(30),

确定频度分布,该频度分布对于特定的MR图像(30)的像素值说明,特定的MR图像的每个像素值按照哪种频度发生,和

根据该频度分布建立接收线圈元件(24)的掩模(31)。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,

确定频度分布的两个最大的相对极大值,

确定阈值像素值(26),该阈值像素值位于这两个最大的相对极大值之间,

从特定的MR图像的像素出发对像素值曲线(25)进行插值,和

对于该掩模(31),对临时MR图像的每个像素建立一个掩模值,其中,如果所述临时MR图像的各自的像素的像素值按照所述像素值曲线(25)小于阈值像素值(26),则各自的图像像素的掩模值获得第一值,否则,获得第二值。

6.根据上述权利要求1所述的方法,其特征在于,

按照以下步骤建立接收线圈元件(24)的掩模(31):

根据仅由接收线圈元件(24)采集的MR数据建立特定的MR图像(30),

确定特定的MR图像(30)的像素值的p分位数,从而特定的MR图像(30)的像素的p×100%具有比p分位数的像素值小的像素值,其中,p相应于p分位数的下侧部分,和

根据所述p分位数建立所述接收线圈元件(24)的掩模(31)。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,

根据特定的MR图像的像素对强度曲线(25)进行插值,和

对于所述掩模(31)建立对所述临时MR图像的每个像素的掩模值,其中,如果所述临时MR图像的各自的像素的像素值按照所述像素值曲线(25)小于p分位数的像素值,则各自的像素的掩模值获得第一值,否则获得第二值。

8.根据权利要求2至7中任一项所述的方法,其特征在于,

利用笛卡尔扫描和利用简单的梯度回波序列建立所述特定的MR图像(30)。

9.根据权利要求2至8中任一项所述的方法,其特征在于,

利用分辨率建立特定的MR图像,所述分辨率相应于在检查对象的(O)的0.5m长度上存在最多64个像素。

10.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,

将所述掩模(31)借助扩张操作进行放大。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子公司,未经西门子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210548262.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top