[发明专利]对称等离子体处理室

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，包括：

盖组件和室体，其围成处理区域；以及

衬底支撑组件，其具有中心轴线且设置在所述室体中，其中，所述衬底支撑组件包括：

设置在所述室体的中心区域中的支撑基座，所述中心区域与所述处理区域流体地密封；

由所述支撑基座支撑的下电极；以及

第一致动装置，其设置在所述中心区域内，并构造成将所述下电极竖直移动一距离；

其中所述中心区域与设置在所述室体内的抽真空区域流体地密封，所述抽真空区域沿着所述衬底支撑组件的所述中心轴线位于所述中心区域的下方。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其中，所述衬底支撑组件还包括布置在其中的多个升降销。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理设备，还包括第二致动装置，其设置在所述中心区域内，并构造成竖直移动所述多个升降销。

4.根据权利要求3所述的等离子体处理设备，其中，所述多个升降销耦合到升降销板。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理设备，其中，所述第二致动装置包括：

丝杠，其耦合到所述升降销板；以及

致动器，其构造为使所述丝杠前进和后退。

6.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，还包括真空管，其流体耦合到布置在所述下电极内的一个或多个升降销孔。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理设备，还包括气体供应管路，其流体耦合到布置在所述下电极中的气体端口。

8.根据权利要求6所述的等离子体处理设备，所述真空管流体耦合到所述室体的所述抽真空区域。

9.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其中，所述盖组件包括：

上电极，其具有构造成将处理气体分配到所述处理区域中的中心歧管和构造成将处理气体分配到所述处理区域中的一个或者多个外部歧管；以及

环形歧管，其经由多个气体管耦合到所述一个或者多个外部歧管，所述气体管围绕所述衬底支撑组件的所述中心轴线对称地布置。

10.一种等离子体处理设备，包括：

盖组件和室体，其围成处理区域；以及

衬底支撑组件，其设置在所述室体中，其中，所述衬底支撑组件包括：

设置在所述室体的中心区域中的支撑基座，所述中心区域与所述处理区域流体地密封；

由所述支撑基座支撑的下电极；以及

第一致动装置，其设置在所述中心区域内，并构造成将所述下电极竖直移动一距离；

上电极，其具有都具有导电配件的一个或多个流体入口和一个或多个流体出口；以及

多个导电塞，其中，所述导电配件和所述导电塞围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称布置。

11.一种在等离子体处理设备内的衬底支撑组件，包括：

支撑基座，其具有中心轴线；

下电极，其耦合到所述支撑基座；以及

第一致动装置，其耦合到所述支撑基座并被构造成将所述下电极竖直移动一距离；

其中所述衬底支撑组件与抽真空区域流体地密封，所述抽真空区域位于所述等离子体处理设备内沿着所述支撑基座的所述中心轴线在所述衬底支撑组件的下方。

12.根据权利要求11所述的衬底支撑组件，其中，所述衬底支撑组件还包括耦合到升降销板的多个升降销。

13.根据权利要求12所述的衬底支撑组件，还包括第二致动装置，其耦合到所述升降销板并构造成竖直移动所述多个升降销。