[发明专利]等离子体处理设备及盖组件有效
| 申请号： | 201210549648.5 | 申请日： | 2012-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN103050362B | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·D·卡达希;哈密迪·塔瓦索里;阿吉特·巴拉克利斯纳;陈智刚;安德鲁·源;道格拉斯·A·小布什伯格;卡尔蒂克·贾亚拉曼;沙希德·劳夫;肯尼思·S·柯林斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 对称 等离子体 处理 | ||
1.一种等离子体处理设备，包括：
盖组件和室体，其围成处理区域；
衬底支撑组件，其设置在所述室体中；
上衬里，其设置在所述室体内并包围所述处理区域，其中，所述上衬里具有圆柱形壁，所述圆柱形壁具有多个槽，所述多个槽贯穿设置并围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称地布置；以及
背衬，其耦合到所述圆柱形壁并覆盖所述多个槽中的至少一者。
2.根据权利要求1所述的设备，还包括网衬，其围绕所述衬底支撑组件环形地设置并电耦合到所述上衬里。
3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述网衬包括底壁和从所述底壁以向外和向上的角度延伸的外壁。
4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述外壁具有多个贯穿形成的开孔。
5.根据权利要求4所述的设备，其中，所述多个贯穿形成的开孔绕所述网衬的中心轴线对称定位。
6.根据权利要求1所述的设备，还包括狭缝阀门组件，其定位为将狭缝阀门与所述上衬里中的一个所述槽对齐。
7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述狭缝阀门和所述上衬里由相同材料构成。
8.根据权利要求6所述的设备，其中，所述狭缝阀门和所述背衬由相同材料构成。
9.根据权利要求1所述的设备，其中，所述上衬里还包括从所述圆柱形壁向内延伸的底壁，其中，所述底壁具有多个贯穿形成的通道。
10.根据权利要求9所述的设备，其中，所述多个贯穿形成的通道绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称地定位。
11.一种盖组件，包括：
上衬里，所述上衬里具有圆柱形壁，所述圆柱形壁具有多个槽，所述多个槽贯穿设置并围绕所述上衬里的中心轴线对称地布置；以及
背衬，其耦合到所述圆柱形壁并覆盖所述多个槽中的至少一者。
12.根据权利要求11所述的盖组件，其中，所述上衬里还包括从所述圆柱形壁向内延伸的底壁，其中，所述底壁具有多个贯穿形成的通道。
13.根据权利要求12所述的盖组件，其中，所述多个贯穿形成的通道绕所述上衬里的中心轴线对称地定位。
14.一种等离子体处理设备，包括：
盖组件和室体，其围成处理区域；
衬底支撑组件，其设置在所述室体中；
上衬里，其设置在所述室体内并包围所述处理区域，其中，所述上衬里具有圆柱形壁，所述圆柱形壁具有多个槽，所述多个槽贯穿设置并围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称地布置；
狭缝阀门组件，其定位为将狭缝阀门与所述上衬里中的一个所述槽对齐；
背衬，其耦合到所述圆柱形壁并覆盖所述多个槽中的至少一者；以及
网衬，其围绕所述衬底支撑组件环形地设置并电耦合到所述上衬里。
15.根据权利要求14所述的等离子体处理设备，其中，所述上衬里还包括从所述圆柱形壁向内延伸的底壁，其中，所述底壁具有多个贯穿形成的通道，并且所述多个贯穿形成的通道绕所述上衬里的中心轴线对称地定位。
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