[发明专利]疏水镀膜液及其所制备的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺无效
申请号: | 201210551082.X | 申请日: | 2012-12-18 |
公开(公告)号: | CN103865390A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 方铭国;萧建仁 | 申请(专利权)人: | 锜玮科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | C09D183/12 | 分类号: | C09D183/12;C09D7/12;C03C17/30;B05D3/02 |
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地址: | 518104 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 疏水 镀膜 及其 制备 抗污抗 指纹 生产工艺 | ||
1.一种疏水镀膜液,其特征在于:包括有
氟硅氧烷 100质量份;
全氟聚醚 0.1~0.5质量份;
蒸馏水或去离子水 1~20质量份;
醇 10~50质量份;
无机酸 0.1~2质量份。
2.根据权利要求1所述疏水镀膜液,其特征在于:所述氟硅氧烷的化学结构式为CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-O-Si-(OCH3)3 。
3.根据权利要求1所述疏水镀膜液,其特征在于:所述全氟聚醚的化学结构式为CF3-O-(CF2-O-CF2-CF2-O)n-CF3 。
4.根据权利要求1所述疏水镀膜液,其特征在于:所述醇为甲醇或乙醇中的一种或两种。
5.根据权利要求1所述疏水镀膜液,其特征在于:所述无机酸为盐酸或硫酸或硝酸中的一种或几种。
6.一种应用如权利要求1所述疏水镀膜液制备的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺,其特征在于:包括如下步骤,
a、首先将需要进行抗污抗指纹镀膜的基材进行清洗,清洗后在基材的表面上进行羟基化处理;经处理后的基材表面形成有羟基;
b、将疏水镀膜液倒入喷镀设备中,并将羟基化后的基材放入喷镀设备中进行喷镀作业;
c、将喷镀后的基材放入烘烤箱中进行烘烤;烘烤温度为150℃;烘烤时间为30分钟;
d、最后,将烘烤后的基材取出冷却10分钟即得具有抗污抗指纹镀膜层的基材。
7.根据权利要求6所述的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺,其特征在于:所述基材为玻璃。
8.根据权利要求6所述的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺,其特征在于:所述喷镀设备采用大气奈米喷镀设备。
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