[发明专利]磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置及方法

权利要求书

1.一种磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置，其特征在于包括有研磨头主轴（1）、基板（2）、具有与超薄硬脆材料基片（6）的形状及大小一致的磁性套（4）、高磁感应强度磁性体（5）、研磨盘修整套（8）、研磨盘（11）、研磨盘主轴（13），其中固定螺钉（3）将布置有高磁感应强度磁性体（5）的基板（2）镶嵌固定在磁性套（4）上形成柔性研磨抛光头，研磨盘（11）固定在研磨盘主轴（13）上，研磨盘修整套（8）置于研磨盘（11）上，磁流变工作液(15)通过循环管（16）加入到研磨盘（11）的上表面。

2.根据权利要求1所述的磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置，其特征在于上述调节研磨盘修整套（8）的安装位置与柔性研磨抛光头正对。

3.根据权利要求1所述的磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置，其特征在于上述研磨盘修整套（8）所设修整面具有矩形槽（9），磁流变工作液(15)在高磁感应强度磁性体（5）作用下能通过矩形槽（9）进入超薄硬脆材料基片（6）与柔性研磨抛光头之间由铁粉（20）和磨料（21）组成的磁流变效应粘弹性垫（27）。

4.根据权利要求1所述的磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置，其特征在于上述研磨盘修整套（8）的几何中心开有与超薄硬脆材料基片（6）的形状及大小一致的内孔（22、23），超薄硬脆材料基片（6）在工作过程中切向固定在研磨盘修整套（8）所设的内孔（22、23）内。

5.根据权利要求1所述的磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置，其特征在于上述超薄硬脆材料基片（6）在磁流变效应粘弹性垫（27）弹性力作用下，最低点紧贴研磨盘（11）表面，下表面翘曲空间则填满磁流变效应研磨液（15），完成超薄硬脆材料基片（6）的法向半固着夹持。

6.根据权利要求1所述的磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置，其特征在于上述研磨头主轴（1）、磁性套（4）、研磨盘修整套（8）和研磨盘（11）为抗磁材料，基板（2）为顺磁材料；上述基板（2）为平板，或为具有与高磁感应强度磁性体（5）直径相匹配的带孔厚板，磁性体之间增加抗磁材料加以固定；上述研磨盘（11）通过销钉（12）固定在研磨盘主轴（13）上。

7.根据权利要求1所述的磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置，其特征在于上述研磨盘（11）与磁性套（4）的工作面为带网状槽（10）的平面，或为光滑平面；上述高磁感应强度磁性体（5）端面磁感应强度为2000GS以上，且磁极同向布置于基板（2）上。

8.根据权利要求1所述的磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置，其特征在于上述研磨盘修整套(8)制成研磨盘修整齿轮（19）；上述柔性研磨抛光头固定在研磨盘修整齿轮（19）内，并放置于具有带齿圈回收槽（18）和中心齿轮轴（28）的研磨机中，修整齿轮（19）的外齿轮与回收槽（18）内齿轮及中心齿轮轴（28）内齿轮相啮合，中心齿轮轴（28）带动研磨盘修整齿轮（19）绕回收槽（18）和中心齿轮轴（28）作行星运动，带动超薄硬脆材料基片（6）及柔性研磨抛光头工作，研磨盘修整齿轮（19）的上表面还装设有调节研磨抛光压力的配重块（17）。