[发明专利]一种便于光路调整的气体分析仪样气室装置有效
| 申请号： | 201210555733.2 | 申请日： | 2012-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103884677B | 公开（公告）日： | 2017-05-03 |
| 发明（设计）人： | 骆德全;郁良;韩敏艳;周欣 | 申请（专利权）人： | 北京大方科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G01N21/39 | 分类号： | G01N21/39;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 魏晓波 |
| 地址： | 100875 北京市海淀区学*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 便于 调整 气体 分析 仪样气室 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种便于光路调整的气体分析仪样气室装置，为高温多次反射样气室，包括样气室管、设置在所述样气室管内部的近端球面反射镜和远端球面反射镜，其特征在于，还包括：
与所述样气室管的内壁密封相连，用于调节所述远端球面反射镜与所述近端球面反射镜之间距离的调节装置，所述远端球面反射镜或近端球面反射镜与所述调节装置相连；
所述调节装置为滑块，且所述滑块与所述样气室管的内壁通过螺纹相连；
还包括设置在所述调节装置与所述样气室管的内壁之间的密封件；所述调节装置远离所述远端球面反射镜或所述近端球面反射镜的一端设置有螺纹，另一端设置有密封件固定槽；
所述滑块为圆柱形块，且所述滑块为与样气室管的内壁贴合的结构。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述密封件为密封垫或密封圈。
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