[发明专利]一种清洗液及其应用在审

专利信息
申请号: 201210557287.9 申请日: 2012-12-19
公开(公告)号: CN103882444A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 张建;荆建芬;周文婷;蔡鑫元;王雨春 申请(专利权)人: 安集微电子(上海)有限公司
主分类号: C23G1/00 分类号: C23G1/00
代理公司: 上海翰鸿律师事务所 31246 代理人: 李佳铭
地址: 201203 上海市浦东新区张*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洗 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种清洗液,其包括至少一种有机酸,氨羧络合剂,至少一种羧酸类聚合物和/或其盐,以及一种非离子表面活性剂。

2.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述有机酸的浓度为质量百分比0.05~5%,所述氨羧络合剂的浓度为质量百分比0.005~1%,所述羧酸类聚合物和/或其盐的浓度为质量百分比0.0005~1%,所述非离子表面活性剂的浓度为质量百分比0.0005~1%。

3.根据权利要求2所述的清洗液,其特征在于:所述有机酸的浓度为重量百分比0.1~3%,所述氨羧络合剂的浓度为重量百分比0.01~0.5%,所述羧酸类聚合物和/或其盐的浓度为重量百分比0.001~0.1%,所述非离子表面活性剂的浓度为重量百分比0.001~0.1%。

4.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的有机酸为柠檬酸,苹果酸,草酸,酒石酸和/或水杨酸。

5.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的氨羧络合剂选自乙二胺四乙酸,乙二胺二琥珀酸,乙二醇二乙醚二胺四乙酸,二乙烯三胺五乙酸,羟基乙基乙二胺三乙酸,环己二胺四乙酸,2,2-双[二(羧甲基)胺]二乙醚及其盐中的一种或多种。

6.根据权利要求5所述的清洗液,其特征在于:所述盐为氨盐,钾盐。

7.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的羧酸类聚合物为丙烯酸类聚合物及其盐。

8.如权利要求7所述的清洗液,其特征在于:所述的羧酸类聚合物选自聚丙烯酸,丙烯酸与苯乙烯的共聚物,丙烯酸与顺丁烯二酸酐的共聚物和/或丙烯酸与丙烯酸酯的共聚物中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的羧酸类聚合物分子量为1,000~300,000。

10.根据权利要求9所述的清洗液,其特征在于:所述的羧酸类聚合物分子量为1,000~30,000。

11.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的非离子表面活性剂为聚氧乙烯型非离子表面活性剂。

12.根据权利要求11所述的清洗液,其特征在于:所述的非离子表面活性剂选自烷基聚氧乙烯醚,烷基酚聚氧乙烯醚,脂肪醇聚氧乙烯醚,脂肪酸聚氧乙烯酯,脂肪胺聚氧乙烯醚,脂肪酰胺聚氧乙烯醚及聚氧乙烯/聚氧丙烯共聚物一种或多种。

13.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的清洗液pH值小于7。

14.根据权利要求13所述的清洗液,其特征在于:所述的清洗液pH值为2-5。

15.根据权利要求1-14任一项所述的清洗液,其在金属衬底中的应用。

16.根据权利要求15所述的应用,其特征在于:所述的金属衬底为铝、铜、钽、氮化钽、钛、氮化钛、钨、镍、镍-磷、铁、银和/或金。

17.根据权利要求1-16任一项所述的清洗液,其在清洗机中清洗晶片或在抛光结束后在抛光盘上清洗晶片中的应用。

18.一种非离子表面活性剂在改善晶片表面的亲水性及防腐蚀性能中的应用。

19.如权利要求18所述的应用,其特征在于:所述的非离子表面活性剂主要为聚氧乙烯型非离子表面活性剂,包括烷基聚氧乙烯醚,烷基酚聚氧乙烯醚,脂肪醇聚氧乙烯醚,脂肪酸聚氧乙烯酯,脂肪胺聚氧乙烯醚,脂肪酰胺聚氧乙烯醚及聚氧乙烯/聚氧丙烯共聚物一种或多种。

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