[发明专利]激光处理装置及其控制方法

权利要求书

1.一种激光处理装置，包括：

反应室，包括上面放置衬底的平台；

激光发生单元，发射激光束并包括激光束阻挡单元；

光学单元，通过反射和折射从该激光发生单元照射的激光束，将所述激光束引入该反应室；

振动检测单元，检测该反应室、该激光发生单元、该光学单元或该平台的振动；以及

控制器，根据从该振动检测单元发送的振动信号确定是否操作该阻挡单元。

2.根据权利要求1所述的激光处理装置，其中该振动检测单元包括：第一振动检测传感器，其被提供给该反应室；第二振动检测传感器，其被提供给该激光发生单元；第三振动检测传感器，其被提供给该光学单元；以及第四振动检测传感器，其被提供给该平台。

3.一种激光处理装置的控制方法，包括以下步骤：

（a）确定包括上面放置衬底的平台的反应室的振动幅度是否小于预设值；

（b）当该反应室的振动幅度小于该预设值时，确定发射待照射到该反应室中的激光束的激光发生单元的振动幅度是否小于预设值；

（c）当该激光发生单元的振动幅度小于预设值时，确定将从该激光发生单元照射的激光束引入该反应室的光学单元的振动幅度是否小于预设值；以及

（d）当该光学单元的振动幅度小于预设值时，确定该平台的振动幅度是否小于预设值。

4.根据权利要求3所述的方法，还包括：当在步骤（a）中确定该反应室的振动幅度大于或等于该预设值时，通过该阻挡单元的操作阻挡所述激光束。

5.根据权利要求3所述的方法，还包括：当在步骤（b）中确定该激光发生单元的振动幅度大于或等于该预设值时，通过该阻挡单元的操作阻挡所述激光束。

6.根据权利要求3所述的方法，还包括：当在步骤（c）中确定该光学单元的振动幅度大于或等于该预设值时，通过该阻挡单元的操作阻挡所述激光束。

7.根据权利要求3所述的方法，还包括：当在步骤（d）中确定该平台的振动幅度大于或等于该预设值时，通过控制该平台来补偿所述振动。