[发明专利]介质处理装置

权利要求书

1.一种介质处理装置，其特征在于，

该介质处理装置具备：

磁头；和

引导部件，其设于与所述磁头对置的一侧，

所述磁头以在所述引导部件的引导面滑动的方式而在具有磁条的介质的处理位置与初始位置之间移动，

所述引导面在所述磁头的移动路径上具有除去所述磁头的附着物的清扫区域。

2.根据权利要求1所述的介质处理装置，其特征在于，

所述清扫区域是设于所述引导面的凹部或者凸部的至少任一种。

3.根据权利要求2所述的介质处理装置，其特征在于，

所述清扫区域是沿着与所述磁头的移动方向正交的方向形成的一个或者两个以上的槽。

4.根据权利要求3所述的介质处理装置，其特征在于，

所述一个或者两个以上的槽相对于所述引导面的垂直方向倾斜地形成。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的介质处理装置，其特征在于，该介质处理装置还具备朝所述引导面对所述磁头施力的施力部件。