[发明专利]带纹理结构的薄膜及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201210558975.7 申请日: 2012-12-20
公开(公告)号: CN103029387A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 刁锐敏 申请(专利权)人: 绵阳龙华薄膜有限公司
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06;B32B3/30;B29C59/04
代理公司: 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 代理人: 伍孝慈
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 纹理 结构 薄膜 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.带纹理结构的薄膜,主要由薄膜本体组成,在该薄膜本体的至少一个表面上设有纹理结构(2),其特征在于:所述薄膜本体包括高分子材料制成的复合结构层(1)。

2.按照权利要求1所述的带纹理结构的薄膜,其特征在于:所述薄膜本体还包括设置在复合结构层(1)上的防护层。

3.按照权利要求2所述的带纹理结构的薄膜,其特征在于:所述防护层为一层,且该防护层为增强层(3)或透明复合层(4)。

4.按照权利要求2所述的带纹理结构的薄膜,其特征在于:所述防护层为两层,所述两层防护层均为增强层(3)或透明复合层(4),且该两层防护层分别设置在复合结构层(1)的上、下两个表面上;或者,所述两层防护层分别为增强层(3)和透明复合层(4)。

5.按照权利要求2所述的带纹理结构的薄膜,其特征在于:所述防护层为三层,且其中两层防护层设置在复合结构层(1)的一个表面上,另一层防护层则设置在复合结构层(1)的另一个表面上;同时,设置在复合结构层(1)的同一个表面上的两层防护层分别为增强层(3)和透明复合层(4)。

6.按照权利要求2所述的带纹理结构的薄膜,其特征在于:所述防护层为四层,且其中两层防护层设置在复合结构层(1)的上表面上,另两层防护层则设置在复合结构层(1)的下表面上;同时,设置在复合结构层(1)的同一个表面上的两层防护层分别为增强层(3)和透明复合层(4)。

7.按照权利要求1~6任一项所述的带纹理结构的薄膜,其特征在于:所述高分子材料为工程塑料。

8.按照权利要求7所述的带纹理结构的薄膜,其特征在于:在所述高分子材料中还添加有添加剂,所述添加剂为抗氧剂、抗紫外吸收剂、抗冲改性剂、阻燃剂、抗静电剂、功能剂、分散剂、着色料中的一种或几种。

9.带纹理结构的薄膜的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)制造带纹理结构的薄膜母模模板,同时制造薄膜子模;

(2)将薄膜母模模板放卷入两个辊筒之间,并将薄膜子模也放卷入两个辊筒之间,在两个辊筒的相互挤压力下将薄膜母模模板上的纹理结构印制在薄膜子模上;

(3)将印制有纹理结构的薄膜子模产品定型后收卷。

10.按照权利要求9所述的带纹理结构的薄膜的制造方法,其特征在于:所述薄膜子模通过将高分子原材料充分干燥后经挤出机塑化挤出制成。

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