[发明专利]待曝光基材及底片的对位方法及影像检测对位系统

权利要求书

1.一种待曝光基材及底片的对位方法，其特征在于，至少有二组摄影单元、一套调整机构和一个控制装置配合运作，所述的控制装置控制调整机构以调整该基材及该底片的相对位置，该方法包括下述步骤：

（a）每个摄影单元分别拍摄一张影像，每张影像的视野范围包括基材边缘及底片边界；

（b）控制装置定位出步骤（a）中影像的基材边缘及底片边界；

（c）控制装置根据步骤（b）中定位的基材边缘及该底片边，计算一偏移量；

（d）控制装置根据步骤（c）计算的偏移量驱动调整机构，并依次调整基材及该底片的相对位置，使该基材及该底片彼此对齐。

2.根据权利要求1所述的待曝光基材及底片的对位方法，其特征在于，所述的摄影单元的拍摄位置朝向基材边缘，所述的控制装置的调节步骤如下：

步骤（b）是先定位出第一张影像中的底片边界与影像中心线的第一交点，再定位出第二张影像中的底片边界与影像中心线的第二交点；

步骤（c）是先计算该第一交点及该第二交点之间的距离，再计算出第一张影像中过第一交点与相应的第一底片边界垂直的第一间距，以及第二张影像中第二交点与相应的第二底片边界垂直的第二间距，最后将所述的两交点之间的距离、第一间距和第二间距代入三角函式换算一偏移角度；

步骤（d）是根据步骤（c）的偏移角度驱动该调整机构，调整该基材的位置。

3.根据权利要求1所述的待曝光基材及底片的对位方法，其特征在于，所述的摄影单元的拍摄位置朝向基材的上边缘和下边缘，所述的控制装置的调节步骤如下：

步骤（b）分别定位出两张影像中的基材边缘及底片边界；

步骤（c）先计算出第一张影像的基材边缘与对应的底片上边界之间的上间距，再计算出第二张影像的基材边缘与对应的底片下边界之间的下间距；

步骤（d）根据步骤（c）所述的上间距和下间距之差值调整基材的位置，使上方间距与下间距基本相等。

4.根据权利要求1所述的待曝光基材及底片的对位方法，其特征在于，所述的摄影单元的拍摄位置朝向基材的左边缘和右边缘，所述的控制装置的调节步骤如下：

步骤（b）分别定位出两张影像中的基材边缘及底片边界；

步骤（c）计算第一张影像的基材边缘与相应的底片边界之间的左间距，再计算出第二张影像的基材边缘与相应的底片边界之间的右间距；

步骤（d）根据步骤（c）所述的左间距及右方距之差值调整该基材的位置，使左间距和右方距基相等。

5.一种待曝光基材及底片的影像检测对位系统，其特征在于，包括：一套调整机构，至少二组摄影单元和一套控制装置，控制装置电性连接调整机构及各该摄影单元；

所述的控制装置包括一个用于定位出两影像中的基材边缘及底片边界的影像处理单元， 一个根据基材边缘及该底片边界计算偏移量的判断单元，以及一个根据偏移量驱动该调整机构，以此来调整基材及该底片的相对位置使基材及该底片相对齐的控制单元；

所述的摄影单元每组独立拍摄一张影像，每个影像视野范围包括一基材边缘及一底片边界。

6.根据权利要求5所述的待曝光基材及底片的影像检测对位系统，其特征在于，所述的各组摄影单元的拍摄位置分别朝向该基材的同一边缘；

所述的影像处理单元先定位出第一张影像中的底片边界与相应的影像中心线的第一交点，再定位出第二张影像中的底片边界与相应的影像中心线的第二交点；

所述的判断单元计算第一交点及该第二交点之间的距离，再测量出第一张影像中过第一交点与相应的第一底片边界垂直的第一间距，以及第二张影像中第二交点与相应的第二底片边界垂直的第二间距，最后将所述的两交点之间的距离、第一间距和第二间距代入三角函式换算一偏移角度；

所述的控制单元依据偏移角度驱动该调整机构以调整该基材的位置。

7.根据权利要求5所述的待曝光基材及底片的影像检测对位系统，其特征在于，所述的摄影单元的拍摄位置朝向基材的上边缘和下边缘；

所述的影像处理单元分别定位出两张影像中的基材边缘及底片边界；

所述的判断单元计算第一张影像的基材边缘与对应的底片上边界之间的上间距，再计算出第二张影像的基材边缘与对应的底片下边界之间的下间距；

所述的控制单元根据上间距和下间距之差值调整基材的位置，使上方间距与下间距基本相等。