[发明专利]具有多台工艺设备的制造系统的派工方法有效

专利信息
申请号: 201210560131.6 申请日: 2012-12-20
公开(公告)号: CN103064380A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 陈杰勇;翁庆忠;林俊毅;寇永锋;陈江涛 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 工艺设备 制造 系统 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及产品的制造领域,尤其涉及一种具有多台工艺设备的制造系统的派工方法。

背景技术

产品在制造过程中,尤其是半导体芯片的制造过程中,包含众多复杂和重要的环节。由于规模庞大、制造资源众多、高度不稳定和反复重入型加工等特点,使得半导体晶圆制造系统成为当前最为复杂的制造系统之一。

在半导体晶圆制造系统中,瓶颈设备是制约系统产量、生成周期和在制品水平的关键因素。为了保证瓶颈设备(例如黄光区的步进机)得到充分利用,必须提供充足的加工任务,以防止因瓶颈设备空闲而造成系统整体的产量下降。现有技术中,对包含瓶颈设备的制造系统进行派工时,每隔一定时间向制造系统内投入固定数量的晶圆。例如,在制造产品时,第一天向上述制造系统内投入1200片晶圆,第二天向上述制造系统内投入1200片晶圆,第三天……,直至产品制造结束。

然而,采用上述方法对包含瓶颈设备的制造系统派工时,制造系统的在制品水平可控性有待提高,产品的平均生产周期长。

更多关于具有多台工艺设备的制造系统的派工方法,请参考公开号为“CN102541032A”的中国专利

发明内容

本发明解决的问题是提供一种具有多台工艺设备的制造系统的派工方法,制造系统的在制水平可控性高,产品的平均生产周期短。

为解决上述问题,本发明的实施例提供了一种具有多台工艺设备的制造系统的派工方法,包括:

获取各工艺设备在单位时间内执行的工序量,确定瓶颈设备,所述瓶颈设备在单位时间内执行的工序量最小;

获取产品的工艺路径,获取部分工艺设备本身可容纳的在制品数,并获取所述部分工艺设备所在场地可容纳的在制品数,以及各在制品需要通过瓶颈设备的次数,确定瓶颈设备的初始预生产工序量,所述部分工艺设备为瓶颈设备及工艺路径中位于瓶颈设备前的工艺设备;

根据所述部分工艺设备堆积的在制品的批量数、以及各在制品需要通过瓶颈设备的工序次数,获取瓶颈设备的实时预生产工序量;

根据初始预生产工序量与实时预生产工序量,向所述制造系统派工,使所述初始预生产工序量与实时预生产工序量处于动态平衡中。

可选地,使所述初始预生产工序量与实时预生产工序量处于动态平衡中的方法为:当实时预生产工序量与初始预生产工序量相等时,向制造系统增加第一生产工序量,所述第一生产工序量等于瓶颈设备的实际生产工序量;当实时预生产工序量小于初始预生产工序量时,获取初始预生产工序量与实时预生产工序量间的第一差值,向制造系统增加第二生产工序量,所述第二生产工序量等于第一差值与第一生产工序量之和;当实时预生产工序量大于初始预生产工序量时,停止向制造系统增加工序量,直至实时预生产工序量小于或等于初始预生产工序量。

可选地,所述向制造系统增加的第一生产工序量或第二生产工序量在获得下一时间间隔的实时预生产工序量前的任一时刻集中增加,或者根据瓶颈设备工作的频率均匀增加。

可选地,所述初始预生产工序量小于等于瓶颈设备的额定工序量,所述额定工序量为所述部分工艺设备本身容纳的在制品、所述部分工艺设备所在场地的容纳在制品需要通过瓶颈设备的工序次数的总和。

可选地,所述实时预生产工序量为瓶颈设备的剩余工序量,所述剩余工序量为部分工艺设备堆积的在制品需要通过瓶颈设备的工序次数的总和。

可选地,所述工艺设备堆积的在制品包括:工艺设备内实际容纳的在制品、以及所述工艺设备所在场地所堆积的在制品。

可选地,所述获取瓶颈设备的实时预生产工序量的方法为:每隔固定时间采集瓶颈设备的实时预生产工序量。

可选地,每隔2小时-24小时采集一次瓶颈设备的实时预生产工序量。

可选地,向所述制造系统派工的时间和频率、与瓶颈设备工作的时间和频率相同。

可选地,所述瓶颈设备为固定瓶颈设备或临时瓶颈设备。

可选地,半导体晶圆制造系统中,所述固定瓶颈设备为黄光区的步进机。

与现有技术相比,本发明的技术方案具有以下优点:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司,未经上海宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210560131.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top