[发明专利]一种具有负离子功能的日用细瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种具有负离子功能的日用细瓷，其特征在于，坯体包括以下重量百分比的原料：氧化硅60—66%、氧化铝28—34%、氧化铁0.05—0.15%、氧化钛0.01—0.05%、氧化钙0.1—0.2%、氧化镁0.15—0.25%、氧化钾1—1.5%、氧化钠0.08—0.15%、氧化锌1—2%、氧化钡1—1.5%、氧化锂0.2—0.5%、氧化锆0.1—0.5%、电气石0.5—0.8%。

2.一种制备权利要求1所述的具有负离子功能的日用细瓷的方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）将上述比例的原料加入球磨机中，按照球石：水：料=1.8:1:1的重量比进行湿球磨，得到浆料；

（2）加入锆珠，按照浆料：锆珠=1:1.5的重量比进行搅拌球磨；

（3）将上述浆料在18000高斯除铁器中除铁；

（4）将除铁后的浆料过筛，至325目筛条余0.6—0.8%，得到滤泥；

（5）将过筛后的滤泥粗练，陈腐，再细练；

（6）注浆，滚压成型；

（7）成型后经干燥、修坯、再干燥制得坯体；

（8）坯体经素烧、施釉、釉烧、加彩、彩烧得成品。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤5所述的滤泥陈腐时间为10—15天。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤7所述的修坯采用细腻海绵待坯体水分为5—6%时修正坯体表面。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤8所述的施釉采用自动淋釉方法，施釉厚度为0.2mm。

6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤8所述的彩烧温度为1120—1320℃，烧结时间为8小时。