[发明专利]一种半导体用石英的表面处理方法

权利要求书

1.一种石英表面处理方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

a)将石英进行喷砂处理，获得表面平均粗糙度Ra为2~10μm的石英；

b)将步骤a)获得的石英进行酸蚀刻，获得表面无尖峰且蚀刻凹槽深宽度均一的石英；

c)采用水对步骤b)获得的石英进行冲淋后采用有机溶剂浸泡；

d)采用酸溶液对步骤c)获得的石英进行浸泡；

e)采用水对步骤c)获得的石英进行冲淋后进行超声处理。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，采用喷砂机进行所述喷砂处理，所述喷砂机的喷嘴与石英表面呈30~60度，距离石英表面距离为10~30cm；且所述喷砂处理是选用下组的砂料进行喷砂：粒径为24#，46#、或80#的白刚玉砂料。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述酸蚀刻采用的酸蚀刻液由氢氟酸、盐酸、乙酸、烷基酚聚氧乙烯醚、无盐型两性咪唑啉、吐温80中的两种或三种以上与纯水混合而成，所述酸蚀刻液温度20~50℃，石英浸入所述酸蚀刻液内10~60min。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述酸蚀刻液由氢氟酸、乙酸、无盐型两性咪唑啉、吐温80、纯水混合而成，其中，所选氢氟酸的质量浓度为49%、乙酸的质量浓度为70%、无盐型两性咪唑啉的质量浓度为99%、吐温80的质量浓度为99%，纯水电阻率为16M，所述酸蚀刻液中各组分的体积份数为：

氢氟酸：10~50体积份；乙酸：10~40体积份；无盐型两性咪唑啉：0.02~2体积份：吐温80：0.02~2体积份；纯水：30~80体积份。

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述酸蚀刻液由氢氟酸、盐酸、烷基酚聚氧乙烯醚、吐温80、纯水混合而成，其中，所选氢氟酸的质量浓度为49%、盐酸的质量浓度为37%、烷基酚聚氧乙烯醚的质量浓度为99%、吐温80的质量浓度为99%，纯水电阻率为16M，所述酸蚀刻液中各组分的体积份数为：

氢氟酸：10~30体积份；盐酸：10~40体积份；烷基酚聚氧乙烯醚：0.02~2体积份；吐温80：0.02~2体积份；纯水：30~60体积份。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤c)采用的水的电阻率为16~18M，所述有机溶剂为异丙醇、无水乙醇、丙酮中的任意一种或两种以上的混合溶液，所述浸泡的时间为5~10min。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤c)采用有机溶液浸泡后，将石英在80~120℃条件下干燥5~10min。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤d)中酸溶液为硝酸、氢氟酸、纯水的混合溶液，酸溶液的温度为10~80℃；浸泡时间1~10min。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所选氢氟酸的质量浓度为49%、硝酸的质量浓度为70%，纯水电阻率为16-18M，所述酸溶液中各组分的体积份数为：

氢氟酸：1~5体积份；硝酸：1~5体积份；纯水：2~8体积份。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤e)使用纯水进行冲淋，再放入电阻为16~18M的超声波槽内震荡，所述的超声波频率为80KHz，120KHz，132KHz，196KHz的任意2种频率并联方式，超声波震荡时间10~30min。