[发明专利]一种彩膜基板制作方法、彩膜基板及显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

色阻、感应电极隔垫物、覆盖在所述色阻及感应电极隔垫物上的导电层，以及与阵列基板绝缘连接的支撑隔垫物，其中，

所述感应电极隔垫物的材质与所述色阻的材质相同，且所述感应电极隔垫物至少与所述红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的一个位于同一层。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述导电层具体为：

导电金属层和/或氧化铟锡ITO层。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述支撑隔垫物设置在所述导电层上。

4.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-3任一所述的彩膜基板。

5.一种彩膜基板制作方法，其特征在于，包括：

同时制作色阻及感应电极隔垫物；

在所述色阻及感应电极隔垫物上制作导电层；

制作支撑隔垫物。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述在所述色阻及感应电极隔垫物上制作导电层，具体包括：

在所述色阻及感应电极隔垫物上制作导电金属层；和/或

在所述色阻及感应电极隔垫物上制作ITO层。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，同时制作色阻及感应电极隔垫物，具体为：

同时制作红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的至少一个及感应电极隔垫物。

8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述同时制作色阻及感应电极隔垫物，具体为：

在制作色阻的同时，采用色阻积层的方式制作感应电极隔垫物。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在制作色阻的同时，采用色阻积层的方式制作感应电极隔垫物，具体包括：

采用半色调曝光或者灰阶曝光的方式进行层积高度调整，得到不同高度的色阻及感应电极隔垫物。

10.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述同时制作色阻及感应电极隔垫物之前，还包括：

在基板上制作黑矩阵。