[发明专利]一种PDP障壁新型再生方法

说明书

技术领域

本发明涉及等离子显示屏障壁再生的方法，尤其是一种采用新技术手段替换再生机，从而使等离子显示屏障壁再生的方法，具体为一种PDP障壁新型再生方法，适用于障壁制作领域。

 

背景技术    

在PDP显示器中，障壁是构成PDP放电单元的基本要素，其高度和宽度直接影响放电空间的大小和控制驱动电路的动态范围，它们在全屏范围内的一致性更是决定显示器性能的重要指标。障壁的作用在于保证两块基板间的放电间隙，确保一定的放电空间；防止相邻单元间的光电串扰。主要技术要求： 对障壁的要求是高度一致(偏差在±5mm以内)，形状均匀。在保证障壁强度的前提下，障壁宽度应尽可能窄，以增大单元的开口率，提高器件亮度。 

障壁图形形成原理：在后板后介质上分两次进行涂敷障壁，分别经过干燥后在进行烧结，其次在障壁膜层上涂敷一种负性感光胶，干燥后将所需要的障壁图形通过曝光母板，经过曝光、显影光刻技术转移到负性感光胶上，再通过刻蚀工艺，利用硝酸与未掩盖的障壁膜层进行化学反应，而被掩盖的障壁膜层则被保留下来，最后通过剥膜将感光胶剥离掉，便形成了障壁图形。

在PDP行业障壁制作领域中，障壁涂敷难免会出现一些严重条纹、凹陷，凸起，混液等不良基板；障壁图形形成过程中，会出现障壁图形尺寸不良或因障壁缺陷报废面取超过2cell/Sheet以上的基板。

再生机使用的再生液包括去离子水、丁基卡必醇、二乙二醇乙醚、N-甲基吡咯烷酮、乙醇胺、季铵碱以及非离子表面活性剂。再生机再生需从障壁干燥后进行下线，投入障壁再生机，利用再生液溶解障壁，使障壁与基板分离开，达到再生效果。

障壁材料中各种材料配置比例不定，刻蚀性障壁材料由无机粉末和有机载体组成。而无机粉末包括低熔点玻璃粉（ZnO、BaO）、填料（Al2O3）和颜料组成，有机载体包括树脂、溶剂和助剂，如图一所示：

    目前PDP量产过程中，再生机只能对障壁材料中的有机载体未完全挥发时进行再生，对干燥后的基板再生不完全，还需岗位人员用酒精进行擦拭，浪费人力和物力，且对烧结后的障壁基板、障壁图形尺寸不良或因障壁缺陷报废面取超过2cell/Sheet以上的基板不能进行再生，只能做报废处理。这些报废严重影响了产品良率，增大了公司运营成本。因此，有必要寻找一种新的方法，并制定相应的方案。

发明内容

本发明正是基于以上技术问题，提供一种可节省人力和物力、节约成本、使PDP障壁再生完全、基板上无残留的障壁，可减少基板报废情况，提高产品品质的一种PDP障壁新型再生方法。 

本发明的技术方案为：

一种PDP障壁新型再生方法，首先是将障壁下层涂敷阶段至障壁烧结炉前之间的阶段产生的障壁再生基板投入障壁烧结炉中进行烧结，其烧结温度根据不同障壁材料而不同，但应满足能使障壁材料中的玻璃粉熔化并粘住浆料中的固体成分为可，通常其烧结温度控制在563±3℃。再生时，烧结温度等条件与正常生产时的条件设置为一样即可。

然后将已烧结完毕后的障壁再生基板进行下线处理，将障壁烧结后障壁膜层出现异常的再生基板和障壁图形制作过程中出现的障壁图形尺寸不良的再生基板也进行下线处理；将烧结完毕的再生基板、膜层出现异常的再生基板和图形尺寸不良的再生基板均投入障壁刻蚀机，通过障壁刻蚀机进行刻蚀；刻蚀的条件为：温度为40±5℃，压力为1.5±0.5bar，pH值为1.4±0.2，速度为1500-3000mm/min。最后将完全刻蚀后的再生基板下线按照正常屏工艺流程进行再次涂敷。刻蚀采用的药液为硝酸，其与障壁材料发生了化学反应，具体为障壁材料中的氧化物和硝酸发生了反应，生产了硝酸盐和水，比如ZnO、BaO和Al₂O₃与硝酸的反应式如下：

2HNO₃+ZnO→Zn(NO₃)₂+H2O

2HNO₃+BaO→Ba(NO₃)₂+H₂O

6HNO₃+Al₂O₃→2Al(NO₃)₃+3H₂O