[发明专利]基于全反射原理的光学元件激光预处理方法及装置

权利要求书

1.基于全反射原理的光学元件激光预处理方法，其特征在于：将激光光束从透明光学元件的一侧面入射到透明光学元件内部并照射到透明光学元件前表面的处理点1，在处理点1处, 激光光束的入射角度满足光学全反射条件，经由全反射反射至透明光学元件后表面的处理点2处,依此类推,激光光束在透明光学元件内部前后表面之间进行多次全反射,直至经过处理点N之后从透明光学元件另一侧面出射；即激光光束对样品前后表面的处理点1至N以及样品内部光束经过的区域都进行了辐照处理。

2.根据权利要求1所述的基于全反射原理的光学元件激光预处理方法，其特征在于：所述的激光光束在一个透明光学元件内部经过多次全反射对透明光学元件进行辐照处理之后,出射的激光光束经光路调整后依次进入另外一个或多个透明光学元件内部进行同样的全反射辐照处理。

3.基于全反射原理的光学元件激光预处理装置，包括有激光光源，其特征在于：还包括有依次设置于激光光源的后端和透明光学元件一侧面之间的激光能量调整控制装置、激光光束整形处理装置、激光光束分光楔板光束角度调整装置，激光光束分光楔板的第一反射输出端后设置有CCD成像装置，其第二反射输出端后设置有分光装置，分光装置的两分光输出端后分别设置有光电探测器和激光能量测量装置。

4.根据权利要求3所述的基于全反射原理的光学元件激光预处理装置，其特征在于：所述的基于全反射原理的光学元件激光预处理装置还包括有相对透明光学元件另一侧面设置的激光光束吸收装置。

5.根据权利要求3所述的基于全反射原理的光学元件激光预处理装置，其特征在于：所述的光束角度调整装置选用激光高反镜，所述的激光高反镜固定于激光高反镜装夹调整装置上。