[发明专利]一种MPT微波能量真空管水冷装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种水冷装置，具体涉及一种用于微波等离子体炬原子发射光谱仪中的MPT微波能量真空管水冷装置。

背景技术

微波等离子体炬原子发射光谱仪（microwave plasma torch，简称MPT），是以微波等离子体炬为核心的大型精密原子发射光谱分析仪器，它的应用领域非常广泛，可以测定元素周期表中包括电感耦合等离子体原子发射光谱仪测不好的卤素等非金属元素在内的几乎所有元素。在仪器中，微波等离子体炬的能量来源是微波能量真空管，它对微波等离子体炬的发生非常重要。

微波能量真空管是一种用来产生微波能的元器件。阳极是微波能量真空管的主要组成之一，它的阳极除收集电子外，还对高频电磁场的振荡频率起着决定性的作用。由于能量转换成微波能后的电子还具有一定的能量，如果这些具有剩余能量的电子打到阳极上，那么可以使阳极的温度升高。阳极收集的电子越多，即电子的能量越大，阳极温度就越高，这样会使微波能量真空管产生微波能的稳定性受到影响，从而影响仪器的检测性能。因此阳极需要具有良好的散热能力。

发明内容

针对微波能量真空管散热的问题，本发明目的是提供一种MPT微波能量真空管水冷装置，它可以为微波能量真空管的阳极提供水冷散热，而且可以通过温度传感器反馈、控制MPT微波能量真空管水冷套的温度，提高了微波等离子体炬原子发射光谱仪的稳定性。

为实现上述目的，本发明提供的MPT微波能量真空管水冷装置，包括一装置主体和供水系统、温控系统，所述装置主体包括固定底板、水循环主体、微波能量真空管适配基座三部分，其中，所述水循环主体为一内部带有单循环水道的空腔台体，台体壁上设置有与单循环水道相通的进水口和出水口；进水口和出水口通过分别装设其上的进水管和出水管连接到供水系统；温控系统与供水系统连接用于调节供水温度；所述微波能量真空管适配基座位于所述水循环主体的上部，基座顶部台面上开设有与微波能量真空管结构相配的槽体，在所述槽体底部与微波能量真空管接触面之间设置有温度传感器，用于检测真空管的温度。

所述固定底板、水循环主体、微波能量真空管适配基座是一体成型。

所述单循环水道是在台体的空腔中通过隔离块隔离成一个“几”字形的通道而成。

所述进水口的口径大于出水口的口径，出水管较进水管细。

所述微波能量真空管适配基座上开设的槽体，包括沿微波能量真空管适配基座顶部台面横向开设的沉槽，和沿顶部台面纵向开设的半圆形的轴槽。

所述微波能量真空管适配基座顶部台面是一倾斜台面。

所述槽体底部对应的是所述单循环水道。

所述装置主体、供水系统、温控系统都由光谱仪主机控制中心统一调控。

所述供水系统包括循环泵和温控水箱；温控系统连接该温控水箱，温控系统包括制冷仪用于调节温控水箱中的水温。

光谱仪主机控制中心同时连接温度传感器、制冷仪和循环泵，光谱仪主机控制中心接收微波能量真空管适配基座底部温度传感器的反馈信息，控制循环泵的流量和制冷仪的制冷温度。

本发明采用上述技术方案，其显著特点是：

1、微波能量真空管适配基座尺寸与微波能量真空管底部紧密配合，保证微波能量真空管的热量传导给微波能量真空管适配基座。

2、水循环主体内部设置一单循环水道，适合液体流动，便于带走热量。

3、水循环主体中出水口略细于进水口，可以使冷却水在水循环主体中充分吸收热量。

4、微波能量真空管适配基座底部安有温度传感器，用于检测真空管的温度，并受主机控制中心调控水循环主体的温度。因为在热传导平衡时，理论上基座槽体底部内外温差应该一致，所以可以间接检测并控制水温。

5、设置有温控系统和供水系统，受主机控制中心控制，可以快速调控水循环主体温度和流量，起到制冷的目的。

附图说明

图1为本发明外观结构示意图。

图2为本发明水循环主体内部剖面示意图。

图3为本发明工作原理示意图。

图中，10—装置主体，20—供水系统，30—温度控制系统，40—光谱仪主机控制中心；1—固定底板，2—水循环主体，3—微波能量真空管适配基座；11—平面板，12—定位孔；21—进水孔，22—出水孔，23—隔离块，24—单循环水道，25—进水管，26-出水管；31-倾斜台面，32-沉槽，33-轴槽，34、35-螺钉孔，36-温度传感器。

具体实施方式

下面结合附图具体说明本发明的具体实施方式。