[发明专利]有机发光显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210568498.2 申请日: 2012-12-24
公开(公告)号: CN103456761A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 李锡宗;李世熙 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机 发光 显示装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种有机发光显示装置,包括:

基板;和

形成在所述基板上的多个子像素,

每个子像素都包括发光层,所述发光层包括由第一基质材料形成的第一基质层、由所述第一基质材料、掺杂剂材料和第二基质材料形成的混合层、以及由所述第二基质材料形成的第二基质层,

其中所述第一基质材料和所述第二基质材料彼此不同,且

其中在所述混合层中产生至少一些光发射。

2.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中所述第一和第二基质材料中的一个是空穴型材料,另一个是电子型材料。

3.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中在所述子像素之中,位于所述发光层下方和上方的电极厚度相等。

4.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中在所述子像素之中,所述发光层厚度不同。

5.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中每个子像素另外包括一个或多个功能层,所述功能层包括从由下述层构成的组中选出的至少一层:空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层。

6.根据权利要求5所述的有机发光显示装置,其中在任意所述功能层中不产生光发射。

7.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中所述子像素在所述基板上发射不同颜色的光且其中所述子像素具有不同的厚度。

8.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中所述子像素每个都包括至少两个发光层,

所述至少两个发光层之一或二者包括所述第一基质层、所述混合层和所述第二基质层,且

所述子像素每个都包括第一发光层、形成在所述第一发光层上的中间层、以及形成在所述中间层上的第二发光层。

9.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中在所述子像素之中,第一基质层、所述混合层和所述第二基质层中至少一层厚度不同。

10.一种制造有机发光显示装置的方法,所述方法包括:

在基板上形成下电极;

形成发光层,所述发光层包括由第一基质材料形成的第一基质层、由所述第一基质材料、掺杂剂材料和第二基质材料形成的混合层、以及由所述第二基质材料形成的第二基质层;

在所述发光层上形成上电极,

其中为形成所述发光层,使用下述源沉积单元,所述源沉积单元包括分别包含所述第一和第二基质材料的第一和第二基质材料源、以及包含所述掺杂剂材料的掺杂剂源,

在形成所述发光层时,在所述源沉积单元如同扫描一样进行移动的同时进行沉积,或者所述沉积源单元固定且在所述基板如同扫描一样进行移动的同时进行沉积。

11.根据权利要求10所述的方法,其中所述第一和第二基质材料中的一个是空穴型材料,另一个是电子型材料。

12.根据权利要求10所述的方法,其中所述混合层的所述第一基质材料具有10到90重量份,所述第二基质材料具有10到90重量份,所述掺杂剂材料具有0.1到20重量份。

13.根据权利要求10所述的方法,其中在所述子像素之中,位于所述发光层下方和上方的电极厚度相等。

14.根据权利要求10所述的方法,其中在所述子像素之中的所述发光层厚度不同。

15.根据权利要求10所述的方法,其中所述子像素在所述基板上发射不同颜色的光且具有不同的厚度。

16.根据权利要求10所述的方法,其中所述子像素每个都包括至少两个发光层,

所述至少两个发光层之一或二者包括所述第一基质层、所述混合层和所述第二基质层,且

所述子像素每个都包括第一发光层、形成在所述第一发光层上的中间层、以及形成在所述中间层上的第二发光层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210568498.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top