[发明专利]液晶显示面板及其制造方法有效
申请号: | 201210568561.2 | 申请日: | 2012-12-24 |
公开(公告)号: | CN103698950A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 金大玹 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;钟强 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示 面板 及其 制造 方法 | ||
1.一种液晶显示面板,包括:
被形成为彼此交叉且限定像素区的栅极线和数据线;
连接到所述栅极线和数据线的薄膜晶体管;
被形成为与所述薄膜晶体管漏极进行部分接触的多个像素电极;
以与所述像素电极交替的形状形成的公共电极;和
在所述像素电极和所述公共电极之间形成的钝化层,
其中,经由单个工艺形成所述像素电极和所述公共电极。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板,其中所述多个像素电极是在经由穿过所述钝化层的多个像素接触沟槽而暴露的漏极上形成的。
3.如权利要求2所述的液晶显示面板,其中所述钝化层包括具有彼此不同的蚀刻速度的第一钝化层和第二钝化层。
4.如权利要求3所述的液晶显示面板,其中
将所述第二钝化层叠置在所述第一钝化层上,以及
所述第一钝化层的蚀刻速度高于所述第二钝化层的蚀刻速度。
5.如权利要求4所述的液晶显示面板,其中随着所述像素接触沟槽从所述第二钝化层向着第一钝化层行进,所述像素接触沟槽在所述钝化层的向内方向上倾斜。
6.如权利要求3所述的液晶显示面板,其中通过调整在形成钝化层时使用的混合气体的混合比率,来形成所述的具有不同蚀刻速度的第一钝化层和第二钝化层。
7.如权利要求1所述的液晶显示面板,其中沿着与所述栅极线平行的方向,纵向形成所述漏极。
8.如权利要求1所述的液晶显示面板,还包括通过沿着与所述栅极线平行的方向延伸而形成的公共线,其中所述公共电极包括:
与所述公共线交叠的水平条;和
与所述水平条连接、且与所述多个像素电极交替的多个垂直条。
9.如权利要求8所述的液晶显示面板,其中所述水平条经由公共接触孔而电连接到所述公共线。
10.如权利要求1所述的液晶显示面板,还包括形成在像素区中、且被配置成将所述多个像素电极连接到所述漏极的下部像素电极。
11.如权利要求2所述的液晶显示面板,其中在除了所述像素接触沟槽之外的所述钝化层上,整体地形成所述公共电极。
12.一种液晶显示面板的制造方法,所述方法包括:
在基板上形成栅极线和从所述栅极线突出的栅极;
在提供有所述栅极线的所述基板上,形成栅极绝缘膜和半导体层;
在所述栅极绝缘膜上,形成数据线和源极及漏极;
在提供有所述数据线和源极及漏极的所述栅极绝缘膜上,形成钝化层;
在所述钝化层中,形成多个像素接触沟槽;以及
通过在提供有所述多个像素接触沟槽的所述钝化层上涂覆透明导电材料,形成多个像素电极和公共电极。
13.如权利要求12所述的方法,其中所述多个像素电极是在经由穿过所述钝化层的所述多个像素接触沟槽而暴露的所述漏极上形成的。
14.如权利要求12所述的方法,其中所述钝化层的形成步骤包括顺序形成具有彼此不同的蚀刻速度的第一钝化层和第二钝化层。
15.如权利要求14所述的方法,其中所述第一钝化层的蚀刻速度高于所述第二钝化层的蚀刻速度。
16.如权利要求15所述的方法,其中随着所述像素接触沟槽从所述第二钝化层向着所述第一钝化层行进,所述像素接触沟槽在所述钝化层的向内方向上倾斜。
17.如权利要求14所述的方法,其中所述钝化层是通过化学气相沉积工艺形成的,并且通过调整沉积气体的混合比率来形成所述的具有不同蚀刻速度的第一钝化层和第二钝化层。
18.如权利要求12所述的方法,其中沿着与所述栅极线平行的方向,纵向形成所述漏极。
19.如权利要求12所述的方法,其中所述栅极线的形成步骤允许与所述栅极线平行的公共线同所述栅极线一起形成,以及所述公共电极包括:
与所述公共线交叠的水平条;以及
与所述水平条连接、且与所述多个像素电极交替的多个垂直条。
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