[发明专利]有机电致发光器件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及电子器件相关的技术领域，特别是涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。

背景技术

有机电致发光器件（OLED）是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件。其典型结构是在ITO玻璃上制作一层几十纳米厚的有机发光材料作发光层，发光层上方有一层低功函数的金属电极。当电极上加有电压时，发光层就产生光辐射。

OLED器件具有主动发光、发光效率高、功耗低、轻、薄、无视角限制等优点，被业内人士认为是最有可能在未来的照明和显示器件市场上占据霸主地位的新一代器件。作为一项崭新的照明和显示技术，OLED技术在过去的十多年里发展迅猛，取得了巨大的成就。由于全球越来越多的照明和显示厂家纷纷投入研发，大大的推动了OLED的产业化进程，使得OLED产业的成长速度惊人，目前已经到达了大规模量产的前夜。

柔性产品是有机电致发光器件的发展趋势，但目前普遍存在寿命短，因此封装的好坏直接影响器件的寿命。本发明的主要目的在于提供一种有机电致发光器件的制备方法，该技术工艺简单，防水氧能力（WVTR）强，对柔性OLED器件的寿命有显著的提高。

发明内容

基于此，本发明的目的是提供一种有机电致发光器件。

具体的技术方案如下：

一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极基底、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层，在所述阴极层上依次层叠有机阻挡层、硅化物层、湿气吸收层和散热层。

在其中一些实施例中，所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N′-二苯基-N,N′-二(1-萘基)-1,1′-联苯-4,4′-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4′,4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺或4,7－二苯基－1,10－邻菲罗啉，厚度为200-300nm。

在其中一些实施例中，所述硅化物层的材质为CrSi₂、TaSi₂、HfSi₂、TiSi₂、MoSi₂或WSi₂，厚度为100nm～150nm。

在其中一些实施例中，所述湿气吸收层的材质为CaO、BaO、SrO或MgO，厚度为100nm～200nm。

在其中一些实施例中，所述散热层的材质为铝、银、铜中的一种或几种，厚度为200～500nm。

在其中一些实施例中，所述阳极基底为ITO玻璃基板，所述阳极基底的厚度为100nm；所述空穴注入层的材质为掺杂30%MoO₃的N,N′-二苯基-N,N′-二(1-萘基)-1,1′-联苯-4,4′-二胺，所述空穴注入层厚度为10nm；所述空穴传输层的材质为4,4′,4″-三（咔唑-9-基）三苯胺，所述空穴传输层的厚度为30nm；所述发光层的材质为掺杂5wt%三（2-苯基吡啶）合铱的1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯，所述发光层厚度为20nm；所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉，所述电子传输层的厚度为10nm；所述电子注入层的材质为掺杂30wt%CsN₃的4,7-二苯基-1,10-菲罗啉，所述电子注入层的厚度为20nm；所述阴极层为Al，所述阴极层的厚度为100nm。

在其中一些实施例中，所述有机电致发光器件还封装有金属箔片；所述有机电致发光器件封装于所述金属箔片和所述阳极基底内。

本发明的还提供上述有机电致发光器件的制备方法。

具体的技术方案如下：

上述有机电致发光器件的制备方法，包括如下步骤：

（1）在阳极基底的阳极层表面依次层叠真空蒸镀制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层；

（2）采用真空蒸镀的方式在阴极层上制备有机阻挡层，所述有机阻挡层的材质为酞菁铜、N,N′-二苯基-N,N′-二(1-萘基)-1,1′-联苯-4,4′-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4′,4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺或4,7－二苯基－1,10－邻菲罗啉；

（3）采用磁控溅射的方法在有机阻挡层上制备硅化物层，所述硅化物层的材质为CrSi₂、TaSi₂、HfSi₂、TiSi₂、MoSi₂或WSi₂；