[发明专利]抗蚀剂添加剂及包含它的抗蚀剂组合物有效
申请号: | 201210573110.8 | 申请日: | 2012-12-25 |
公开(公告)号: | CN103186043A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 申珍奉;徐东辙;任铉淳;韩俊熙 | 申请(专利权)人: | 锦湖石油化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 黄丽娟;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抗蚀剂 添加剂 包含 组合 | ||
1.由下式(1)表示的抗蚀剂添加剂:
[化学式1]
其中在式(1)中,
R’、R”和R’”各自独立地表示选自氢原子、C1-C4烷基、卤原子和C1-C4卤代烷基的基团,在所述C1-C4卤代烷基中烷基中的一个氢原子被卤素原子所取代;
R1和R2各自独立地表示氢原子或者C1-C8烷基;
R3表示选自氢原子和下式(2)和(3)表示的官能团的基团:
[化学式2]
[化学式3]
其中在式(2)和(3)中,
R21表示氢原子或者选自C1-C20烷基、(C1-C20烷氧基)烷基、C3-C30环烷基、甲酰基、(C1-C20烷基)羰基、(C3-C30环烷基)羰基、(C1-C20烷基)羧基、和(C3-C30环烷基)羧基的羟基保护基团;
R31表示选自C1-C20卤代烷基、有机硅基团和C3-C20烃基的疏水基团,以使如果R31表示有机硅基团,p表示0,而如果R31表示C1-C20卤代烷基或C3-C20烃基,p表示1;
R22和R32各自独立地表示选自C1-C20亚烷基、C2-C20亚烯基、C1-C20杂亚烷基、C2-C20杂亚烯基、C3-C30亚环烷基、C3-C30亚环烯基、C2-C30杂环烷二基和C3-C30杂环烯二基的基团;
R23和R33各自独立地表示选自和的酸不稳定性基团,其中Ra、Rb、Rc和Rd各自独立地表示选自C1-C20烷基、C3-C30环烷基、(C1-C10烷基)环烷基、羟基烷基、C1-C20烷氧基、(C1-C10烷氧基)烷基、乙酰基、乙酰基烷基、羧基、(C1-C10烷基)羧基、(C3-C18环烷基)羧基和C3-C30杂环烷基的基团,或者Ra、Rb、Rc和Rd相邻基团可以彼此结合形成C3-C30饱和或不饱和烃环或C2-C30杂环基团;
x表示0-3的整数;y表示0-10的整数;
R4表示选自C1-C20卤代烷基、有机硅基团和C3-C20烃基的疏水性基团;
R5表示选自氢原子、C1-C20烷基、C2-C20烯基、C3-C30环烷基、C3-C30环烯基、C6-C30芳基、C1-C20杂烷基、C2-C30杂环基团及其组合的基团;
l、m、n和o分别表示主链中相应的重复单元的比例,以使l+m+n+o=1,同时0<l/(l+m+n+o)<0.9,0.2<m/(l+m+n+o)<0.9,0≤n/(l+m+n+o)<0.9和0≤o/(l+m+n+o)<0.9,条件是当R3表示氢原子或者由式(2)表示的官能团时,n不是0;和
p表示0或1的整数。
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