[发明专利]存储态真空电子器件残余气体的光谱检测装置及检测方法有效
申请号: | 201210574366.0 | 申请日: | 2012-12-26 |
公开(公告)号: | CN103063579A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 孙小菡;袁慧宇;吴晨 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 211189 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 存储 真空 电子器件 残余 气体 光谱 检测 装置 方法 | ||
技术领域
本发明涉及电子器件残余气体的检测领域,具体来说,涉及一种存储态真空电子器件残余气体的光谱检测装置及检测方法。
背景技术
真空电子器件(vacuum electronic device)指借助电子在真空或者气体中与电磁场发生相互作用,将一种形式电磁能量转换为另一种形式电磁能量的器件。具有真空密封管壳和若干电极,管内抽成真空,残余气体压力为10-4~10-8帕。有些在抽出管内气体后,再充入所需成分和压强的气体。广泛用于广播、通信、电视、雷达、导航、自动控制、电子对抗、计算机终端显示、医学诊断治疗等领域。
大量事实证明,VED的损坏机制包括如下几个方面:阴极耗尽与中毒、管体打火、灯丝损坏等,其中阴极与管体问题都与管内残余气体有着密不可分的关系。VED在长期存储过程中,真空度变化将会导致其寿命衰退。增强可靠性必须解决VED存储期内真空度保持问题。
解决真空度问题首先需要对真空度进行检验,传统对残余气体检测方案是使用四极质谱仪等气体分析仪,需要将四极质谱仪与真空器件内残余气体接触。使用这种方法有明显的缺点,测试仪器与真空器件环境接触,改变了器件的结构,影响器件内残余气体检测结果;对真空电子器件检测破坏了真空环境。因此提出一种简便易行、非破坏性的检测方法具有非常广阔的应用前景。
发明内容
技术问题:本发明所要解决的技术问题是,提供一种存储态真空电子器件残余气体的光谱检测装置,该光谱检测装置可对存储态真空电子器件残余气体进行检测,并且不会破坏存储态真空电子器件,保持器件的完整性;同时,还提供该光谱检测装置的检测方法,该检测方法采用非接触性的方式,完成对存储态真空电子器件残余气体浓度的检测,简单易行。
技术方案:为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:
一种存储态真空电子器件残余气体的光谱检测装置,该光谱检测装置包括单光子计数器、光源、第一旋转平台、第二旋转平台、检测器、支架和计算机,支架位于第一旋转平台外侧,单光子计数器固定连接在支架上,且单光子计数器位于第一旋转平台上方,单光子计数器的信号输出端与计算机的信号输入端连接;检测器中相对的两个侧面为入光面和出光面,入光面和出光面均由玻璃制成,检测器通过支座固定连接在第一旋转平台上,检测器与真空电子器件阴极附近的漂移管相连通;光源固定连接在第二旋转平台上;第二旋转平台连接在第一旋转平台上,且第二旋转平台可在第一旋转平台上旋转;单光子计数器、光源和检测器到第一旋转平台的距离均相等。
利用上述存储态真空电子器件残余气体的光谱检测装置的检测方法,该检测方法包括以下步骤:
步骤10)设定参数:设定检测器中有W种气体粒子,依据式确定每种气体粒子产生散射光强度为I1、I2、I3、…、IW,W种气体粒子产生的总散射光强度
Iq=I1+I2+I3+...+IW+IA,其中,IA为背景光的强度;
式(1)
Ip为检测器中第p种气体粒子产生的散射光强度,p为1到W之间的整数;I0为入射光的强度,Np为第p种气体对光产生散射作用气体粒子的个数,rp为第p种气体粒子的半径,d为单光子计数器和检测器之间的距离,Λ为入射光的波长,为入射光与散射光之间的角度,np为第p种气体粒子的折射率;
Np与检测器中第p种气体粒子浓度Mp的关系如式所示,
Np=Mp*S*L式(2)
其中,S为入射光的横截面积,L为光在检测器内经过的距离;
步骤20)开启光源,光源发出入射光,入射光通过光源的输出端口射向检测器的入光面,入射光进入检测器内,被检测器内的残余气体散射,部分入射光从检测器的出光面射出,其余入射光向各方向发生散射;
步骤30)按照采样入射角度,旋转第二旋转平台,调节第二旋转平台和检测器之间的入射角至采样入射角度;
步骤40)在步骤30)形成的采样入射角度下,按照采样散射角度,旋转第一旋转平台,调节第一旋转平台和单光子计数器之间的散射角至采样散射角度
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