[发明专利]一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法有效
申请号: | 201210574411.2 | 申请日: | 2012-12-26 |
公开(公告)号: | CN103901066A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 戴平;马振珠;刘玉兵;王彦君;赵鹰立;闫冉;韩蔚 | 申请(专利权)人: | 中国建材检验认证集团股份有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 100024*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 获得 标准 稀释 射线 荧光 强度 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种X射线荧光分析方法,特别是涉及一种在X射线荧光分析中获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法及其应用。
背景技术
X射线荧光分析方法是一种基于被测元素X射线荧光强度与浓度之间存在函数关系的定量分析方法。强度与浓度之间的函数关系通过采用标准样品建立标准曲线的方法确定。
现有的熔融法X射线荧光分析测量样品的X射线荧光强度前,首先要将样品制备成玻璃熔片,样品玻璃熔片中熔剂和样品的灼烧基质量比称为稀释比,记为R0。对标准样品的X射线荧光强度测量时,也应首先将标准样品制备成玻璃熔片,制备标准样品玻璃熔片时熔剂和标准样品的灼烧基质量比称为标准稀释比,记为Rs。制备未知样品玻璃熔片时,需要对灼烧后的熔剂和样品准确称量,以获得与标准稀释比Rs相等的稀释比R。通过X射线荧光分析仪测得该稀释比R下元素的荧光强度,进而进行浓度的求算。但是,现有的熔片制备方法要求对样品与熔剂进行定量而准确称量,在称量过程中不仅费时费力,而且容易由于称量不准确引入实验误差,造成实际熔片的稀释比偏离标准稀释比,从而造成分析结果的准确度和精密度较差。
有鉴于上述现有的X射线荧光分析方法存在的缺陷,经过不断的研究和实验,终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的主要目的在于,提供一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,所要解决的技术问题是使其可以将待测元素在不同稀释比下的荧光强度转化为标准稀释比下的荧光强度,从而不再受限于定量称样,提高分析效率,从而更加适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,其包括:
步骤1,将被测试样品制备为玻璃熔片,该玻璃熔片的稀释比为R;
步骤2,对上述制备的玻璃熔片进行X荧光强度测定,得到样品中某元素的X荧光强度值I;
步骤3,根据公式:,计算得到标准稀释比R0下的X荧光强度I0,其中αi,f为熔剂影响系数。
较佳的,上述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,所述的熔剂影响系数αi,f是通过一下步骤得到的,
步骤S1,用熔剂和被测试样品制备多个玻璃熔片,各玻璃熔片具有不同的稀释比R;
步骤S2,对上述各玻璃熔片进行X射线荧光强度测定,得到各个玻璃熔片中某元素i的X射线荧光强度I;
步骤S3,设上述被测试样品中元素i的浓度为Ci,用元素i的浓度Ci对I和RI过原点做二元回归分析,得到两个斜率记为斜率K1和斜率K2,则熔剂影响系数αi,f=K2/K1。
较佳的,上述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,所述的步骤1中所述的稀释比R在3-10范围内。
较佳的,上述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,所述的被测试样品为水泥。
本发明还提出一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法在测量水泥样品中的应用。
本发明还提出一种水泥样品的测量方法,其采用上述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法得到标准稀释比下的荧光强度,进而通过标准曲线可以获得样品中元素的含量,从而完成水泥样品组成的分析。
借由上述技术方案,本发明建立了一种荧光强度转换方法,采用本方法可以将元素在不同稀释比下的荧光强度转化为标准稀释比下的荧光强度,从而不再受限于定量称样,在一定范围内稀释比可以任意变化而不会影响分析结果的准确性,可以大大提高分析效率并且降低由于样品在称量过程中吸湿等原因造成的结果误差。
本发明的方法可以用在水泥X射线荧光分析中,在国家水泥质检中心的应用结果表明,本技术在水泥企业化验室具有良好的应用前景,进而可望成为X射线荧光分析仪器进入水泥行业的必备技术。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本发明的较佳实施例详细说明如后。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以较佳实施例,对依据本发明提出的一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法及其应用的具体实施方式详细说明如后。
熔剂影响系数αi,f测定原理
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