[发明专利]光致抗蚀膜和使用该光致抗蚀膜的有机发光显示装置的制造方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2012年8月27日递交的韩国专利申请第10-2012-0093762号的优先权，并通过援引将其全文并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种光致抗蚀膜，更具体而言，涉及一种光致抗蚀膜和使用所述光致抗蚀膜的有机发光显示装置的制造方法。

背景技术

有机发光显示(OLED)装置是一种新型的平面显示装置，OLED装置本身能够发光。与液晶显示(LED)装置相比，OLED装置具有更宽的视角和更高的对比度。另外，OLED装置不需要额外的背光单元，因此OLED装置能够实现薄型化和轻量化。此外，OLED装置在能耗方面也具有优势。另外，OLED装置具有较快的响应速度，并且OLED装置能够由低直流(DC)电压驱动，还能够以低制造成本制得。

为了使OLED装置的衬底上的两个电极之间的发光层(EML)图案化，已经使用了精细金属掩模(FMM)法或喷墨法。

不过，由于掩模制造技术的局限性，FMM法难以适用于大型高分辨率的装置。而且，FMM法还可能因掩模的重量而产生掩模下垂的问题。喷墨法采用了液体型材料，因而其可能降低在制造过程中曝光的发光装置的功能效率。尤其是，在采用现有技术的蚀刻工艺的方法中，发光装置与用于蚀刻金属的溶液直接接触，因而可能会出现断路，或者可能使装置的特性劣化。

为了克服这些问题，已经引入了剥离(lift-off)工艺，即使在包括曝光、显影和蚀刻步骤的光掩蔽工艺中仅执行曝光和显影步骤而不进行蚀刻步骤，所述剥离工艺也能够形成细微的图案。

然而，相当于现有技术的光致抗蚀膜的干膜抗蚀剂(DFR)具有很强的粘合强度。因此，在移除光致抗蚀图案的步骤中，可能会出现残留层。也就是说，残留层可能在发光层(EML)中引起缺陷，因此降低装置的效率。

热敏性聚合物(thermo-responsive polymer)是通过在水溶液中随温度变化的聚合物溶解度的快速改变而发生可逆相变的材料。

热敏性聚合物可大致分为具有最低临界溶解温度(LCST)的材料和具有最高临界溶解温度(UCST)的材料。例如，具有LCST的热敏性聚合物在LCST或高于LCST的温度下具有疏水性，由此发生相分离。

在医疗领域中，热敏性聚合物通常用于控制药物释放。近些年，热敏性聚合物由于在各种领域中的应用研究而引起关注。

发明内容

因此，本发明涉及一种光致抗蚀膜和使用所述光致抗蚀膜的OLED装置的制造方法，其基本上消除了因现有技术的局限性和缺点而造成的一个或多个问题。

本发明的一个方面涉及一种OLED的制造方法，该方法通过使用采用了热敏性聚合物的光致抗蚀膜而有利于提高显示装置的效率。

本发明的另一方面涉及一种OLED的制造方法，该方法通过使用采用了热敏性聚合物的光致抗蚀膜而有利于以最小的损伤形成图案。

对于本发明的其他的优点和特征，一部分将在下面的说明中阐述，其他部分将在研究以下内容后对本领域技术人员而言变得显而易见或者可以通过对本发明的实施而获知。本发明的目的和其他优点将通过书面说明书及其权利要求以及附图中具体指出的结构来实现和获得。

在一方面，为实现这些和其他的优点，并根据本发明的目的，如本文所具体及宽泛描述的，一些实施方式的光致抗蚀膜可包括位于支持膜上的光至热转换层(light-to-heat conversion layer)；和位于所述光至热转换层上的热敏性聚合物层。

在本发明的另一方面，一些实施方式的OLED装置的制造方法可包括：在转移衬底上形成包括支持膜、光至热转换层(LTHC)和热敏性聚合物层的光致抗蚀膜；使所述光致抗蚀膜曝露；用红外线(IR)照射曝露的所述光致抗蚀膜以形成光致抗蚀图案；在所述光致抗蚀图案上沉积发光层；和通过调节温度使所述光致抗蚀图案脱离所述转移衬底。

应当明白，对本发明的以上一般描述和以下详细描述都仅是示例性的，旨在为所要求保护的本发明提供进一步解释。

附图说明

包含附图是为了提供对本发明的进一步理解，并将其并入本申请中构成本申请的一部分，附图描绘了本发明的示例性实施方式，并与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：

图1是本发明的一个实施方式的光致抗蚀膜的截面图；和

图2～6是使用本发明一个实施方式的光致抗蚀膜的OLED装置的制造方法的截面视图。

具体实施方式