[发明专利]处理盒和成像设备有效
申请号: | 201210579320.8 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN103186089A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 森冈昌也;菅野一彦 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G21/18 | 分类号: | G03G21/18;G03G15/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 柳爱国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 成像 设备 | ||
技术领域
本发明涉及电子照相型成像设备(电子照相成像设备)和供成像设备使用的处理盒。
背景技术
电子照相成像设备是通过使用电子照相方法在记录材料(介质)上形成图像的设备。电子照相成像设备的实例可以包括复印机、打印机(激光束打印机、发光二极管打印机等)、传真机、文字处理机等。
进一步地,处理盒通过将作为图像承载构件的电子照相感光构件与至少一个处理构件(作用在感光构件上的处理工具)整体地装配到盒中制备而成,所述盒能够可拆卸地安装到成像设备的主组件上。处理构件的实例包括充电构件、显影构件和清洁构件。
在传统的电子照相成像设备中,广泛使用其中处理盒能够可拆卸地安装到成像设备的主组件上的处理盒类型。
例如,配置为整合到处理盒中的显影装置通常包括作为显影工具的可旋转的显影剂承载构件,用于给感光构件供应显影剂。作为显影剂承载构件,在一些情况下,使用由诸如橡胶的弹性构件构成的显影辊。
例如,当用于显影辊的诸如橡胶的弹性构件在从制造到使用者开始使用成像设备之前的期间与感光构件保持接触时,弹性构件变形并且物质从此流出,从而在一些情况下不利地影响感光构件。
因此,在传统构造中,作为供作用于感光构件的处理构件(诸如显影辊)使用的弹性构件的材料,选择不易于导致变形和退化的材料。进一步地,作为另一对策,为了增加可用于处理构件的材料选择数量,提出了处理构件和感光构件保持分隔状态并运输的构造(日本申请特 开平(JP-A)Hei7-152224)。
具体地,在特开平JP-A Hei7-152224的发明中,使用导电橡胶辊作为给感光构件充电的处理构件,单向离合器安装在导电橡胶辊的支撑轴上。单向离合器包括齿轮,其可与设置在位于感光鼓相对于旋转轴线方向的侧端处的凸缘上的齿轮啮合。因此,在两个齿轮的啮合状态下,感光鼓和导电橡胶辊配置成相互分隔。单向离合器随着感光鼓的正向旋转沿自由方向旋转运动,从而消除(解除)分隔状态。进一步地,拉伸弹簧沿自由方向驱策单向离合器。然而,对于利用分隔构件使处理构件和感光构件保持在分隔状态并运输时的传统构造,例如当这些构件在配送或储存期间经受猛烈振动时,存在由分隔构件保持的分隔状态被消除的可能性。
例如,在JP-A Hei7-152224所述构造中,当处理构件和感光构件经受猛烈撞击并且作用力沿感光鼓和导电橡胶构件分隔的方向作用于其上时,存在两个齿轮之间的啮合解除的可能性。进一步地,同时,存在沿自由方向被驱策的单向离合器旋转运动以消除感光鼓和导电橡胶辊之间的分隔状态的可能性。
为此,在传统构造中,存在用于抑制配送或储存期间的振动的包填材料的成本增加的问题。
顺便地,即使对在使用期间不与感光构件接触的处理构件而言,在一些情况下,人们希望处理构件与感光构件分隔的距离比使用期间更大,以免在使用之前的配送或储存期间与感光构件意外接触。同样在这种情况下,人们希望在使用之前不消除处理构件和感光构件之间分隔更大的状态。
发明内容
本发明的主要目的是提供处理盒和成像设备,其能够在开始使用之前以可靠方式保持感光构件和处理构件比使用期间分隔更大的状态。
根据本发明的一个方面,提供了一种能够可拆卸地安装到成像设 备的主组件上的处理盒,包括:第一单元,所述第一单元包括要在其上形成潜像的图像承载构件;第二单元,所述第二单元包括能够作用在图像承载构件上的处理构件,所述第二单元能够移动到处理构件与图像承载构件分隔的分隔位置和处理构件比在分隔位置时更靠近图像承载构件的接近位置;和分隔构件,所述分隔构件被可旋转地设置在所述第二单元中,用于使所述第二单元保持在分隔位置,其中,所述分隔构件包括接触部,用于在与图像承载构件或者设置在图像承载构件相对于图像承载构件的旋转轴线方向的端部处的端部构件相接触的情况下将所述第二单元保持在分隔位置,并且所述分隔构件包括相位待定部,用于通过与设置在所述第二单元中的相位确定部接合而防止所述分隔构件的旋转,以及,其中,所述分隔构件通过在图像承载构件旋转时在接触部处接收来自图像承载构件或端部构件的作用力克服相位确定部用来确定所述分隔构件相对于所述分隔构件的旋转方向的位置的作用力而进行旋转,并且消除接触部与图像承载构件或端部构件的接触状态以允许所述第二单元从分隔位置移动到接近位置。
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